[发明专利]含有颜料的改性聚合物颗粒的制造方法

权利要求书

1.一种含有颜料的改性聚合物颗粒的制造方法，其中，

使含有颜料的聚合物颗粒(A)和具有1个与该聚合物颗粒(A)的官能团反应的反应性基团的化合物(B)在介质中、在该化合物(B)的反应性基团的合计摩尔数相对于该聚合物颗粒(A)的官能团的合计摩尔数之比(B)/(A)为0.10以上且0.62以下的条件下进行反应，

化合物(B)具有的反应性基团为选自环氧基、缩水甘油基、异氰酸酯基、氮丙啶基、氨基及噁唑啉基中的至少1种。

2.根据权利要求1所述的改性聚合物颗粒的制造方法，其中，

介质为水系介质。

3.根据权利要求1所述的改性聚合物颗粒的制造方法，其中，

化合物(B)具有至少一个醚键。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的改性聚合物颗粒的制造方法，其中，

化合物(B)具有碳原子数为2以上且4以下的亚烷基二醇的结构单元。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的改性聚合物颗粒的制造方法，其中，

化合物(B)的反应性基团为环氧基，化合物(B)的环氧当量为90g/eq以上且1600g/eq以下。

6.根据权利要求1～3中任一项所述的改性聚合物颗粒的制造方法，其中，

化合物(B)的反应性基团为环氧基，其环氧当量为150g/eq以上且1500g/eq以下。

7.根据权利要求1～3中任一项所述的改性聚合物颗粒的制造方法，其中，

构成聚合物颗粒(A)的聚合物为阴离子性聚合物。

8.根据权利要求7所述的改性聚合物颗粒的制造方法，其中，

阴离子性聚合物为阴离子性乙烯基类聚合物，该阴离子性乙烯基类聚合物含有(a)源自阴离子性单体的结构单元、(b)源自疏水性单体的结构单元和(c)源自大分子单体的结构单元。

9.根据权利要求7所述的改性聚合物颗粒的制造方法，其中，

作为含有颜料的聚合物颗粒(A)中的颜料的量相对于阴离子性聚合物的量的质量比，颜料/阴离子性聚合物为50/50～90/10。

10.根据权利要求1～3中任一项所述的改性聚合物颗粒的制造方法，其中，

聚合物颗粒(A)的官能团为选自羧基、磺酸基、及磷酸基中的1种以上。

11.根据权利要求1～3中任一项所述的改性聚合物颗粒的制造方法，其中，

聚合物颗粒(A)的官能团为羧基，化合物(B)的反应性基团为环氧基或缩水甘油基。

12.根据权利要求1～3中任一项所述的改性聚合物颗粒的制造方法，其中，

化合物(B)为选自甲基缩水甘油醚、乙基缩水甘油醚、烯丙基缩水甘油醚、2-乙基己基缩水甘油醚、苯基缩水甘油醚、叔丁基苯基缩水甘油醚、烷基聚环氧乙烷缩水甘油醚、烷基聚环氧丙烷缩水甘油醚、苯酚聚环氧乙烷缩水甘油醚、及丁氧基聚环氧乙烷缩水甘油醚中的1种以上的缩水甘油醚。

13.根据权利要求1～3中任一项所述的改性聚合物颗粒的制造方法，其中，

化合物(B)的分子量为250以上且1200以下。

14.根据权利要求1～3中任一项所述的改性聚合物颗粒的制造方法，其中，

含有颜料的聚合物颗粒(A)的平均粒径为50nm以上且200nm以下。

15.根据权利要求1～3中任一项所述的改性聚合物颗粒的制造方法，其中，

化合物(B)具有碳原子数为2以上且3以下的亚烷基二醇的结构单元。