[发明专利]含硫聚有机硅氧烷组合物及相关方面

权利要求书

1.一种降解受抑制的硅氢加成可固化组合物，包含以下组分：

(i)硅氢加成可固化聚有机硅氧烷预聚物，

(ii)来源于硅氢加成催化剂的金属，和

(iii)沸点大于150摄氏度(℃)的硫化合物；

其中所述硫化合物的硫原子的以摩尔计的原子含量是(ii)来源于硅氢加成催化剂的金属的以摩尔计的原子含量的5至10,000倍；并且

其中所述组合物具有如下所述的硅氢加成可固化聚有机硅氧烷预聚物作为组分(i-a)以及如下所述的硫化合物作为组分(iii-a)中的一种：式(I)的硫官能化有机硅氧烷、式(II)的二有机多硫化物或式(IV)的含巯基的烃：

(i-a)所述硅氢加成可固化聚有机硅氧烷预聚物是硅氢加成可固化树脂-线性有机硅氧烷嵌段共聚物，包含：

40摩尔％至90摩尔％的式[R¹₂SiO_2/2]的D型单元，

10摩尔％至60摩尔％的式[R²SiO_3/2]的T型单元；其中所述共聚物中所有单元的摩尔％的总和合计为100摩尔％，

0.5摩尔％至35摩尔％的硅醇基团[Si-OH]；其中所述共聚物中硅醇基团的摩尔％以每分子的平均值给出，并且进一步地

其中每个R¹和R²独立地为具有0个脂族不饱键的(C₁-C₃₀)烃基或包含至少1个脂族不饱和键的(C₁-C₃₀)烃基，其中所述硅氢加成可固化树脂-线性有机硅氧烷嵌段共聚物包含0.5摩尔％至5摩尔％的包含至少一个脂族不饱和键的(C₁-C₃₀)烃基；

其中所述D型单元[R¹₂SiO_2/2]以线性嵌段排列，每个线性嵌段具有平均100至300个D型单元[R¹₂SiO_2/2]，并且所述T型单元[R²SiO_3/2]以分子量为至少500克/摩尔(g/mol)的非线性嵌段排列，其中至少30摩尔％的非线性嵌段彼此交联，并且其中每个线性嵌段通过包含D型或T型硅氧烷单元的二价连接基连接到至少一个非线性嵌段；并且

其中所述硅氢加成可固化树脂-线性有机硅氧烷嵌段共聚物具有至少20,000g/mol的重均分子量(M_w)；并且

(iii-a)式(I)的硫官能化有机硅氧烷：(R³R⁴R⁵SiO_1/2)_a1(R³R⁴SiO_2/2)_b1(R³SiO_3/2)_c1(O_3/2Si-R⁶-S-(S)_m-R⁷-SiO_3/2)_d1(SiO_4/2)_e1(I)，其中下标m为0、1、2或3；下标a1+b1+c1+d1+e1＝1，a1为0至0.5，b1为0至1，c1为0至1，d1为0至1，并且e1为0至0.2；

其中R³、R⁴和R⁵各自独立地为(C₁-C₃₀)烃基、巯基官能化((HS)-官能化)(C₁-C₃₀)烃基或者含有硫化物基团、二硫化物基团、三硫化物基团或四硫化物基团的(C₁-C₃₀)杂烃基；并且

其中R⁶和R⁷各自独立地为键、(C₁-C₃₀)亚烃基或含有硫化物基团、二硫化物基团、三硫化物基团或四硫化物基团的(C₁-C₃₀)杂亚烃基；并且

前提条件是，d1为0或R³、R⁴和R⁵中的至少一者独立地为巯基官能化(C₁-C₃₀)烃基或者含有硫化物基团、二硫化物基团、三硫化物基团或四硫化物基团的(C₁-C₃₀)杂烃基；

式(II)的二有机多硫化物：R^a-S-(S)_n-R^b(II)，其中下标n为1、2或3，R^a和R^b各自独立地为未取代的(C₂-C₃₀)烃基或被1个或多个取代基R^C取代的(C₁-C₃₀)烃基，其中每个R^C独立地为卤素、-NH₂、-NHR、-NR₂、-NO₂、-OH、-OR、氧基(＝O)、-C≡N、-C(＝O)-R、-OC(＝O)R、-C(＝O)OH、-C(＝O)OR、-SH、-SR、-SSH、-SSR、-SC(＝O)R、-SO₂R、-OSO₂R、-SiR₃或-Si(OR)₃；其中每个R独立地为未取代的(C₁-C₃₀)烃基；和

式(IV)的含巯基的烃：R^d-SH(IV)，其中R^d为未取代的(C₆-C₃₀)烃基或被1个或多个取代基R^C取代的取代(C₅-C₃₀)烃基，其中每个R^C独立地为卤素、-NH₂、-NHR、-NR₂、-NO₂、-OH、-OR、氧基(＝O)、-C≡N、-C(＝O)-R、-OC(＝O)R、-C(＝O)OH、-C(＝O)OR、-SH、-SR、-SSH、-SSR、-SC(＝O)R、-SO₂R、-OSO₂R、-SiR₃或-Si(OR)₃；其中每个R独立地为未取代的(C₁-C₃₀)烃基。