[发明专利]场发射装置以及改质处理方法

权利要求书

1.一种场发射装置，包括：

真空容器，其具有筒状绝缘体，所述绝缘体具有两个端部，所述两个端部被密封以限定在所述绝缘体的内壁侧的真空腔；

发射器，其位于所述真空腔的一端侧并且具有电子生成部，所述电子生成部面对所述真空腔的另一端侧；

保护电极，其设置在所述发射器的所述电子生成部的外周侧，所述保护电极具有在所述真空腔的端到端方向上延伸的圆柱形形状，并且所述保护电极的一端侧被支撑于所述真空容器上并且被固定到所述真空容器；

目标物，其位于所述真空腔的所述另一端侧并且与所述发射器的所述电子生成部对置；以及

支撑部，其具有从所述发射器的与所述电子生成部相反的一侧延伸的形状并且在所述真空腔的端到端方向上可移动地支撑所述发射器，所述支撑部能够移动，以使得通过所述支撑部的移动，所述发射器在所述端到端方向上移动并因此与所述保护电极的另一端侧接触或分开，从而改变所述发射器的所述电子生成部与所述目标物之间的距离。

2.根据权利要求1所述的场发射装置，

其中，所述支撑部包括波纹管，所述波纹管在所述真空腔的端到端方向上能伸缩，并且其一端侧被支撑于所述支撑部并且其另一端侧被支撑于所述真空容器上。

3.根据权利要求1所述的场发射装置，

其中所述支撑部包括：

支撑体，其具有从所述发射器的与所述电子生成部相反的一侧延伸的形状并且在所述真空腔的端到端方向上可移动地支撑所述发射器；

磁性体，其设置在所述支撑体的延伸方向侧；

周缘壁，其具有从所述真空容器的与所述支撑体的所述延伸方向侧对置的部分向外延伸的形状并且包围移动范围，在所述移动范围中所述磁性体随所述支撑体的移动而移动；以及

磁铁，其设置在所述周缘壁的外壁面上；并且

其中，满足关系t1≤t≤t2，其中，t1是在所述磁铁与所述磁性体的所述移动范围之间的方向上从所述磁性体的所述移动范围到所述周缘壁的与所述磁性体的所述移动范围对置的位置处的所述外壁面的距离；t2是在所述磁铁对所述磁性体的磁力作用下能在所述磁铁和所述磁性体之间产生磁引力的最大距离；并且t是所述磁铁和所述磁性体之间的最小距离。

4.一种场发射装置，包括：

真空容器，其具有筒状绝缘体，所述绝缘体具有两个端部，所述两个端部被密封以限定在所述绝缘体的内壁侧的真空腔；

发射器，其位于所述真空腔的一端侧并且具有电子生成部，所述电子生成部面对所述真空腔的另一端侧；

目标物，其位于所述真空腔的所述另一端侧并且与所述发射器的所述电子生成部对置；

保护电极，其设置在所述发射器的所述电子生成部的外周侧，所述保护电极具有在所述真空腔的端到端方向上延伸的圆柱形形状，并且所述保护电极的一端侧被支撑于所述真空容器上并且被固定到所述真空容器；

支撑体，其具有从所述发射器的与所述电子生成部相反的一侧延伸的形状并且支撑所述发射器，所述支撑体能够移动，以使得通过所述支撑体的移动，所述发射器在所述端到端方向上移动并因此与所述保护电极的另一端侧接触或分开；以及

波纹管，其一端侧被支撑于所述支撑体上并且其另一端侧被支撑于所述真空容器上，从而构成所述真空容器的部分。