[发明专利]光学体、光学膜粘合体及光学体的制造方法

权利要求书

1.一种光学体，其特征在于，具有：

光学膜，其具备在一侧表面所形成的第一凹凸结构和在另一侧表面所形成的第二凹凸结构；以及

主膜，其覆盖所述第一凹凸结构，

所述第一凹凸结构的凹凸的平均周期在可见光波长以下，

所述主膜具备：第三凹凸结构，其形成于与所述第一凹凸结构相对的表面，并且，具有所述第一凹凸结构的反转形状，

所述主膜与所述光学膜能够彼此剥离。

2.根据权利要求1所述的光学体，其特征在于，

所述第二凹凸结构的纵横比小于所述第一凹凸结构的纵横比，

所述第一凹凸结构的纵横比是构成所述第一凹凸结构的凸部高度与构成所述第一凹凸结构的凹部底面径长之比，

所述第二凹凸结构的纵横比是构成所述第二凹凸结构的凸部高度与构成所述第二凹凸结构的凹部底面径长之比。

3.根据权利要求1或2所述的光学体，其特征在于，

所述第二凹凸结构的凹凸密度小于所述第一凹凸结构的凹凸密度。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的光学体，其特征在于，

所述光学膜的厚度为1～60μm。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的光学体，其特征在于，

所述第二凹凸结构的凹凸的平均周期在可见光波长以下。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的光学体，其特征在于，

所述主膜具有基材膜和形成在所述基材膜的一侧表面的凹凸树脂层，

在所述凹凸树脂层形成有所述第三凹凸结构。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的光学体，其特征在于，

所述主膜具有覆盖所述第三凹凸结构的无机膜。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的光学体，其特征在于，

所述主膜和所述光学膜中至少一者添加有脱模剂。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的光学体，其特征在于，

所述主膜和所述光学膜的弹性模量相互不同。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的光学体，其特征在于，

所述第一凹凸结构～所述第三凹凸结构中的至少1种以上由已固化的光固化树脂形成。

11.根据权利要求1～10中任一项所述的光学体，其特征在于，

形成有所述第一凹凸结构的表面对于波长350～800nm的光谱反射率为0.1～1.8％，

形成有所述第三凹凸结构的表面对于波长350～800nm的光谱反射率为0.1～1.5％。

12.根据权利要求1～11中任一项所述的光学体，其特征在于，

所述光学膜为一体成型。

13.根据权利要求1～12中任一项所述的光学体，其特征在于，

进一步具有覆盖所述第二凹凸结构的粘接剂层。

14.根据权利要求13所述的光学体，其特征在于，

所述粘接剂层的厚度为1～50μm。

15.一种光学膜粘合体，其具备：

被粘物；以及

经由粘接剂层被粘贴于所述被粘物的权利要求1～14中任一项所述的光学膜。