[发明专利]用于扫描束注入机的束轮廓确定速度提升

权利要求书

1.一种用于将离子注入到工件中的离子注入系统，包括：

离子源，被配置为生成离子束；

质量分析器，被配置为对离子束进行质量分析；

束扫描器，被配置为沿扫描平面扫描所述离子束，由此限定扫描离子束，其中，所述束扫描器还被配置为以第一频率和第二频率扫描所述离子束，所述第一频率至少是所述第二频率的两倍；

端台，被配置为在所述束扫描器以所述第二频率扫描所述离子束时在与所述工件相关联的工件平面处接收所述扫描离子束；

束轮廓确定装置，被配置为在以所述第一频率扫描所述离子束时沿所述扫描平面平移通过所述扫描离子束，其中，所述束轮廓确定装置还被配置为在所述平移的同时测量所述扫描离子束的一个或多个属性；以及

控制器，被配置为在所述离子束以所述第二频率被扫描时部分地基于在以所述第一频率扫描所述离子束时所述扫描离子束的所述一个或多个属性来确定所述扫描离子束的轮廓。

2.根据权利要求1所述的离子注入系统，其中，所述离子束的所述一个或多个属性包括：离子束的电流和离子束入射到所述工件平面的角度中的一个或多个。

3.根据权利要求1所述的离子注入系统，其中，所述第一频率比所述第二频率至少大一个数量级。

4.根据权利要求1所述的离子注入系统，其中，所述束轮廓确定装置包括法拉第杯，所述法拉第杯被配置为沿所述扫描平面通过所述离子束。

5.根据权利要求4所述的离子注入系统，其中，所述法拉第杯包括窄缝，离子束的一部分被允许通过所述窄缝进入。

6.根据权利要求1所述的离子注入系统，其中，所述控制器还被配置为：当以所述第二频率扫描所述离子束时基于所述离子束的以所述第一频率测量的所述一个或多个属性以及所述离子束的期望的一个或多个属性来调节所述离子束。

7.根据权利要求6所述的离子注入系统，其中，所述控制器被配置为：经由对所述离子源、所述质量分析器和所述束扫描器中的一个或多个的控制来调节所述离子束。

8.一种用于注入离子的方法，所述方法包括：

将离子束调节到第一工艺处方；

以第一频率沿扫描平面扫描所述离子束，由此限定第一扫描离子束；

将束轮廓确定装置平移通过所述第一扫描离子束；

在所述束轮廓确定装置平移的同时在所述第一扫描离子束的宽度范围测量所述第一扫描离子束的一个或多个属性，由此限定与所述第一扫描离子束相关联的第一束轮廓；以及

以第二频率沿所述扫描平面扫描所述离子束，由此限定第二扫描离子束，其中，所述第一频率至少是所述第二频率的两倍；

部分地基于所述第一束轮廓确定与所述第二扫描离子束相关联的第二束轮廓；以及

经由所述第二扫描离子束将离子注入工件中。

9.根据权利要求8所述的方法，还包括：将所述离子束调节到第二工艺处方，其中所述第二工艺处方基于第二轮廓。

10.根据权利要求8所述的方法，其中，所述第一扫描离子束的所述一个或多个属性包括：所述离子束的电流、均匀性和角度中的一个或多个。

11.根据权利要求8所述的方法，其中，束轮廓确定装置包括法拉第杯。

12.根据权利要求8所述的方法，其中，确定第二轮廓还基于与所述离子束的扫描相关联的扫描生成和放大系统的频率响应。

13.根据权利要求8所述的方法，其中，所述第一频率比所述第二频率至少大一个数量级。