[发明专利]包括反射型偏振器和补偿膜的光学叠堆在审

专利信息
申请号: 201580071941.7 申请日: 2015-12-29
公开(公告)号: CN107111040A 公开(公告)日: 2017-08-29
发明(设计)人: 马修·B·强森;阿部力;泽田浩明;宫武稔 申请(专利权)人: 3M创新有限公司;日东电工株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 代理人: 梁晓广,车文
地址: 美国明*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 包括 反射 偏振 补偿 光学
【说明书】:

背景技术

光学叠堆——具体地是具有高度特定光学特性的光学叠堆——可用于各种显示器应用。吸收型和反射型(也称为反射)偏振器可以与液晶面板一起连同包括补偿膜的其它膜布置和配置。叠堆内的这些膜中的一个或多个可以是多层光学膜。

吸收型偏振器基本上吸收一个偏振的光,同时基本上透射正交偏振的光。吸收型偏振器通常通过在聚合物基板内或聚合物基板上结合特定取向染料或颜料来形成。

反射型偏振器基本上反射一个偏振的光,同时基本上透射正交偏振的光。多层反射型偏振器(且一般为许多多层光学膜)是通过将数十至数百的熔融聚合物层共挤出并随后对所得膜进行取向或拉伸而形成。

一些补偿膜改变了彼此垂直取向的两个线性偏振光元件之间的延迟值。一些补偿膜可以补偿其他光学部件的光学性能的不均匀性,该光学部件包括液晶面板、吸收型偏振器和反射型偏振器。

发明内容

在一个方面,本公开涉及光学叠堆。光学叠堆包括具有滤色器阵列的液晶面板,该液晶面板包括最靠近滤色器阵列的滤色器侧以及与滤色器侧相背对的非滤色器侧,以及直接层压到液晶面板的滤色器侧的吸收型偏振器。光学叠堆还包括层压到吸收型偏振器的反射型偏振器。

在另一方面,本公开涉及光学叠堆。光学叠堆包括液晶面板,所述液晶面板包括背光源侧基板、前侧基板以及设置在背光源侧基板和前侧基板之间的液晶层,背光源侧基板的光散射强度比前侧基板的光散射强度高。光学叠堆还包括直接层压到背光源侧基板的吸收型偏振器以及层压到吸收型偏振器的反射型偏振器。

附图说明

图1是比较例1的光学叠堆的正视横截面图。

图2是比较例2的光学叠堆的正视横截面图。

图3是比较例3的光学叠堆的正视横截面图。

图4是比较例5的光学叠堆的正视横截面图。

图5是实施例1的光学叠堆的正面横截面图。

图6是实施例2的光学叠堆的正面横截面图。

具体实施方式

光学叠堆,具体地是用于显示器特别是用于液晶显示器的光学叠堆,一般需要专门的光学膜的复杂且精确的布置以便最大化明度和性能。通常,基于显示器的特定应用需求,设计师必须平衡性能与厚度。换句话说,添加更多的膜可能会提高性能,但是以更厚的显示器为代价,增加了重量和制造复杂性以及整体显示器厚度。另一个常见的挑战是总体光通量和对比度之间的平衡。在显示器的语境下的对比度一般是指该显示器的最大明度值和最小明度值之间的明度差异。通常,提供具有改善的最大明度的修改和设计决定也引起对比度下降(即,最小明度较高)。这两个值对于观看者或消费者一般是重要的(例如,差的对比度可能使得图像看起来是褪色的或过饱和的,而差的明度可能使显示器不适合于在阳光下或甚至在明亮的房间中观看)。下部轮廓薄型显示器(其可能需要去除否则会改善对比度、明度或两者的膜)同样进一步使设计过程复杂化。

多层光学膜(即至少部分地通过不同折射率的微层布置以提供期望的透射和/或反射特性的膜)是已知的。众所周知,这类多层光学膜通过在真空室中将无机材料以光学薄层(“微层”)的形式有序沉积于基板上而制成。无机多层光学膜在教科书中有所描述,例如H.A.Macleod,薄膜滤光器(Thin-Film Optical Filters),第二版,Macmillan Publishing Co.(1986)和A.Thelan,光学干涉滤波器的设计(Design of Optical Interference Filters),McGraw-Hill,Inc.(1989)。

也已通过共挤出交替的聚合物层来展示多层光学膜。参见例如美国专利3,610,729(Rogers)、美国专利4,446,305(Rogers等人)、美国专利4,540,623(Im等人)、美国专利5,448,404(Schrenk等人)以及美国专利5,882,774(Jonza等人)。在这些种聚合物多层光学膜中,聚合物材料主要或专门用于各个层的制备中。此类膜适合高产量制造工艺,并且可制成大型片材和卷材。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于3M创新有限公司;日东电工株式会社,未经3M创新有限公司;日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201580071941.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top