[发明专利]表面处理剂有效

专利信息
申请号: 201580073280.1 申请日: 2015-11-26
公开(公告)号: CN107109197B 公开(公告)日: 2019-04-23
发明(设计)人: 三桥尚志;胜川健一 申请(专利权)人: 大金工业株式会社
主分类号: C09K3/18 分类号: C09K3/18;C08G65/336;C09D5/00;C09D5/16;C09D171/02;C09D183/12
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 硅烷化合物 醚基 全氟 表面处理剂 式中
【权利要求书】:

1.一种表面处理剂,其特征在于:

该表面处理剂包含下述通式(A1)、(A2)、(B1)、(B2)、(C1)和(C2)中任一个所示的至少1种的含全氟(聚)醚基硅烷化合物,

(Rf-PFPE)β’-X5-(SiR1nR23-n)β···(B1)

(R23-nR1nSi)β-X5-PFPE-X5-(SiR1nR23-n)β···(B2)

(Rf-PFPE)γ’-X7-(SiRakRblRcm)γ···(C1)

(RcmRblRakSi)γ-X7-PFPE-X7-(SiRakRblRcm)γ···(C2)

式中:

PFPE在每次出现时分别独立地为式:

-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-所示的基团,式中,a、b、c和d分别独立地为0~200的整数,a、b、c和d的和至少为1,标有下标a、b、c或d并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的;

Rf在每次出现时分别独立地表示可以被1个以上的氟原子取代的碳原子数1~16的烷基;

R1在每次出现时分别独立地表示氢原子或碳原子数1~22的烷基;

R2在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团;

R11在每次出现时分别独立地表示氢原子或卤原子;

R12在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基;

n在每个(-SiR1nR23-n)单元中独立地为0~3的整数;

其中,在式(A1)、(A2)、(B1)和(B2)中,存在至少1个R2

X1分别独立地表示单键或2~10价的有机基团;

X2在每次出现时分别独立地表示单键或2价的有机基团;

t在每次出现时分别独立地为1~10的整数;

α分别独立地为1~9的整数;

α’分别独立地为1~9的整数;

X5分别独立地表示单键或2~10价的有机基团;

β分别独立地为1~9的整数;

β’分别独立地为1~9的整数;

X7分别独立地表示单键或2~10价的有机基团;

γ分别独立地为1~9的整数;

γ’分别独立地为1~9的整数;

Ra在每次出现时分别独立地表示-Z-SiR71pR72qR73r

Z在每次出现时分别独立地表示氧原子或2价的有机基团;

R71在每次出现时分别独立地表示Ra’

Ra’的意义与Ra相同;

Ra中,通过Z基连结成直链状的Si最多为5个;

R72在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团;

R73在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基;

p在每次出现时分别独立地为0~3的整数;

q在每次出现时分别独立地为0~3的整数;

r在每次出现时分别独立地为0~3的整数;

其中,在一个Ra中,p、q和r的和为3,在式(C1)和(C2)中,存在至少1个R72

Rb在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团;

Rc在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基;

k在每次出现时分别独立地为1~3的整数;

l在每次出现时分别独立地为0~2的整数;

m在每次出现时分别独立地为0~2的整数;

其中,在标有γ并用括号括起来的单元中,k、l和m的和为3,

在所述通式所示的含全氟(聚)醚基硅烷化合物中,分子量为3000以下的含全氟(聚)醚基硅烷化合物的比率是9mol%以下。

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