[发明专利]用于地下地层操作的薄层光谱电化学池

权利要求书

1.一种光谱电化学池，所述光谱电化学池包括：

池主体，所述池主体具有第一体积；

透明样品窗口，所述透明样品窗口被限定在所述池主体中并且与所述池主体流体连通，所述透明样品窗口限定穿过所述池主体的光路并且具有第二体积；

工作电极，所述工作电极延伸穿过所述池主体并且沿着所述光路进入到所述透明样品窗口中，所述工作电极在其第一端处电耦合至工作电引线；

对电极，所述对电极延伸穿过所述池主体，所述对电极在其第一端处电耦合至对向电引线；

参比电极，所述参比电极延伸穿过所述池主体，所述参比电极在其第一端处电耦合至参比电引线；

样品入口，所述样品入口延伸穿过所述池主体；

溶剂入口，所述溶剂入口延伸穿过所述池主体；

电解质入口，所述电解质入口延伸穿过所述池主体；

离子流体入口，所述离子流体入口延伸穿过所述池主体；

检测物质入口，所述检测物质入口延伸穿过所述池主体；

流体出口，所述流体出口延伸穿过所述池主体；以及

流体混合器，所述流体混合器位于所述池主体内。

2.如权利要求1所述的光谱电化学池，其中所述工作电引线的第二端、所述对向电引线的第二端和所述参比电引线的第二端各自电耦合至恒电势器。

3.如权利要求1所述的光谱电化学池，其中所述池主体由选自由以下各项组成的组的材料构成：聚(醚酮)、聚(醚醚酮)、聚(醚酮酮)、聚(醚醚酮酮)、聚(醚酮醚酮酮)、聚(甲基丙烯酸甲酯)、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚碳酸酯、聚苯并咪唑、耐腐蚀金属、金属合金、超合金以及其任何组合。

4.如权利要求1所述的光谱电化学池，其中所述透明样品窗口由选自由以下各项组成的组的材料构成：玻璃、石英、蓝宝石、熔凝石英、氧化铝以及其任何组合。

5.如权利要求1所述的光谱电化学池，其中所述流体混合器选自由以下各项组成的组：磁力混合器、声波混合器、机械混合器以及其任何组合。

6.如权利要求1所述的光谱电化学池，其中所述池主体的所述第一体积在约0.02ml至约5000ml的范围内。

7.如权利要求1所述的光谱电化学池，其中所述透明样品窗口的所述第二体积在约0.01ml至约1.0ml的范围内。

8.如权利要求1所述的光谱电化学池，其中所述工作电极和所述对电极各自由相同或不同的电化学惰性材料构成。

9.如权利要求8所述的光谱电化学池，其中所述电化学惰性材料选自由以下各项组成的组：惰性金属、惰性碳、透明导电膜以及其任何组合。

10.如权利要求1所述的光谱电化学池，其中所述工作电极至少部分地涂布有检测物质。

11.如权利要求1所述的光谱电化学池，其中所述参比电极是含水参比电极、非水参比电极、伪参比电极或铂线电极。

12.如权利要求1所述的光谱电化学池，其中选自由所述工作电极、所述对电极、所述参比电极以及其任何组合组成的组的电极至少部分地涂布有纳米金颗粒的功能性涂层。