[发明专利]制造互连太阳能电池阵列的方法有效

专利信息
申请号: 201580074147.8 申请日: 2015-12-17
公开(公告)号: CN107210372B 公开(公告)日: 2020-02-28
发明(设计)人: 约翰·博斯曼;崔斯特瑞姆·布德尔 申请(专利权)人: 荷兰应用自然科学研究组织TNO
主分类号: H01L51/48 分类号: H01L51/48;H01L27/30;H01L51/42
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 王达佐;王艳春
地址: 荷兰*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 制造 互连 太阳能电池 阵列 方法
【权利要求书】:

1.制作互连太阳能电池阵列的方法,包括以下步骤:

a)在基板(8)上设置规定厚度(t)的连续层堆(1),所述层堆(1)包括上传导层(2)和下传导层(3),所述上传导层(2)和所述下传导层(3)具有介于它们之间的光敏层(4)和半导体电子传输层(6);

b)选择性地去除所述上传导层(2)和所述光敏层(4),以获得暴露所述半导体电子传输层(6)的接触孔(10);

c)将所述层堆(1)选择性地加热至第一深度(d1),以获得与所述接触孔(10)距离第一中心距(s1)的第一热影响区(12),将所述第一热影响区(12)转变成所述层堆中具有所述第一深度(d1)的基本绝缘区域,从而向所述层堆(1)局部地提供增大的电阻率。

2.根据权利要求1所述的方法,还包括以下步骤:

d)将所述层堆(1)选择性地加热至小于所述规定厚度(t)的第二深度(d2),以获得与所述接触孔(10)距离第二中心距(s2)的第二热影响区(14),

将所述第二热影响区(14)转变成所述层堆(1)的、具有所述第二深度(d2)的基本绝缘区域,从而在直至所述层堆1中的所述第二深度(d2)局部地提供增大的电阻率。

3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述第二深度(d2)等于所述上传导层(2)和所述光敏层(4)的组合厚度。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中,所述步骤(c)的选择性地加热包括在第一规定周期期间将所述层堆(1)连续地加热至所述第一深度(d1)。

5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一深度(dl)等于所述规定厚度(t)。

6.根据权利要求2或3所述的方法,其中,所述步骤(d)的选择性地加热包括在第二规定周期期间将所述层堆(1)连续地加热至所述第二深度(d2)。

7.根据权利要求2所述的方法,其中,所述步骤c)、d)的选择性地加热至所述第一深度(d1)和/或所述第二深度(d2)包括连续波非烧蚀激光划线。

8.根据权利要求1所述的方法,其中,所述步骤(b)的选择性地去除所述上传导层(2)和所述光敏层(4)包括在规定脉动周期期间脉冲加热所述上传导层和所述光敏层。

9.根据权利要求1所述的方法,其中,所述步骤(b)的选择性地去除包括脉冲激光烧蚀。

10.根据权利要求1所述的方法,在所述步骤a)、所述步骤b)和所述步骤c)之后,还包括以下步骤:

e)沉积电子互连构件(16),所述电子互连构件(16)至少部分连续地覆盖所述接触孔(10)、在所述接触孔(10)远侧的所述第一热影响区(12)和所述上传导层(2)。

11.根据权利要求10所述的方法,其中,沉积所述电子互连构件(e)包括使用印刷化合物对所述电子互连构件进行导电印刷,所述印刷化合物包括银、碳、铜、铝和/或碳纳米管。

12.根据权利要求2所述的方法,其中,所述选择性去除步骤(b)和所述选择性加热至所述第一深度和所述第二深度(d1、d2)的步骤c)、d)同时执行。

13.根据权利要求2所述的方法,其中,所述第二热影响区(12)的宽度大于所述接触孔(10)的宽度,所述接触孔(10)布置在所述第二热影响区(14)内。

14.根据权利要求1所述的方法,其中,所述上传导层(2)和所述下传导层(3)中的每个均为聚合物层,所述光敏层(4)包括有机材料。

15.根据权利要求中1所述的方法,其中,所述基板(8)是包括塑料箔的柔性基板。

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