[发明专利]流体喷射装置

权利要求书

1.一种流体喷射系统，所述流体喷射系统包括流体喷射装置的阵列和共用的流体进给槽，每个流体喷射装置包含：

与所述共用的流体进给槽连通且包括第一液滴喷射元件的第一流体喷射室；

包括第二液滴喷射元件的第二流体喷射室；和

流体循环路径，包括与所述共用的流体进给槽和所述第二流体喷射室连通的第一部分、和与所述第二流体喷射室和所述第一流体喷射室连通的第二部分，

所述流体循环路径包括在所述第一部分内的流体循环元件，

其中，对于所述流体喷射装置的阵列而言，所述流体喷射装置沿着所述共用的流体进给槽的长度均匀布置或彼此等距离地隔开，并且所述共用的流体进给槽与各个流体喷射装置的相应的、分开的流体循环路径和第一流体喷射室及第二流体喷射室连通。

2.如权利要求1所述的流体喷射系统，其中，所述流体循环路径的第一部分使流体在第一方向循环，并且所述流体循环路径的第二部分使流体在与所述第一方向相反的第二方向循环。

3.如权利要求2所述的流体喷射系统，其中，所述流体循环路径的第一部分使流体在所述第一方向和所述第二方向循环。

4.如权利要求2所述的流体喷射系统，其中，所述流体循环路径的第二部分使流体在所述第一方向和所述第二方向循环。

5.如权利要求1所述的流体喷射系统，其中，所述流体循环路径的第一部分包括通道环路。

6.如权利要求1所述的流体喷射系统，其中，所述流体循环路径的第二部分包括通道环路。

7.一种流体喷射系统，所述流体喷射系统包括流体喷射装置的阵列和共用的流体进给槽，每个流体喷射装置包含：

与所述共用的流体进给槽连通的第一流体喷射室；

在所述第一流体喷射室内的第一液滴喷射元件；

在第一端部处与所述共用的流体进给槽连通且在第二端部处与所述第一流体喷射室连通的流体循环路径；

在所述流体循环路径内的流体循环元件；

在所述流体循环路径中的第二流体喷射室；和

在所述第二流体喷射室内的第二液滴喷射元件；

其中，对于所述流体喷射装置的阵列而言，所述流体喷射装置沿着所述共用的流体进给槽的长度均匀布置或彼此等距离地隔开，并且所述共用的流体进给槽与各个流体喷射装置的相应的、分开的流体循环路径和第一流体喷射室及第二流体喷射室连通。

8.如权利要求7所述的流体喷射系统，其中，所述流体循环路径使流体在第一方向在所述流体循环元件与所述第二流体喷射室之间循环，并且所述流体循环路径使流体在与所述第一方向相反的第二方向在所述第二流体喷射室与所述第一流体喷射室之间循环。

9.如权利要求8所述的流体喷射系统，其中，所述流体循环路径使流体在所述第一方向和所述第二方向在所述流体循环元件与所述第二流体喷射室之间循环。

10.如权利要求8所述的流体喷射系统，其中，所述流体循环路径使流体在所述第一方向和所述第二方向在所述第二流体喷射室与所述第一流体喷射室之间循环。

11.如权利要求7所述的流体喷射系统，其中，所述流体循环路径包括在所述共用的流体进给槽与所述第二流体喷射室之间延伸的第一部分、和在所述第二流体喷射室与所述第一流体喷射室之间延伸的第二部分。

12.如权利要求7所述的流体喷射系统，进一步包含：

在所述第一流体喷射室与所述第二流体喷射室之间的流体循环路径内的颗粒耐受构造。