[发明专利]随机波掩模生成有效

专利信息
申请号: 201580075026.5 申请日: 2015-04-17
公开(公告)号: CN107206817B 公开(公告)日: 2019-06-04
发明(设计)人: X·法里纳巴加斯;M·I·博雷尔巴约纳;A·马丁内斯巴拉姆维奥 申请(专利权)人: 惠普发展公司;有限责任合伙企业
主分类号: B41J29/38 分类号: B41J29/38;B41J2/04;B41J2/07;B41J2/21
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张健;陈岚
地址: 美国德*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 随机 波掩模 生成
【说明书】:

示例实现方式涉及随机波掩模生成。一些示例可以基于概率密度函数来在掩模区域中分布数据点。概率密度函数可以具有位于掩模区域的第一边缘和第二边缘处的最大概率密度。一些示例还可以识别拟合数据点的波形曲线。波形曲线可以包括变化振幅的振荡波形。一些示例还可以基于波形曲线来生成随机波掩模。

背景技术

打印设备(诸如打印机、多功能打印机等等)可以包括用于将内容打印到打印介质上的数个打印头。在一些打印设备中,这些打印头可以是错列的,使得一个打印头中的小滴喷射元件(例如,喷嘴)的第一集合可以与另一打印头中的小滴喷射元件的第二集合重叠。为了确定这些重叠的小滴喷射元件如何以及何时点火,可以使用掩模。掩模可以定义将在打印期间点火的小滴喷射元件的特定图案。

附图说明

以下详细描述参照了附图,其中:

图1是与所公开的实现方式一致的示例打印设备的框图;

图2是与所公开的实现方式一致的打印图像的打印头组件的示例的顶视图;

图3是与所公开的实现方式一致的示例打印设备的框图;

图4是与所公开的实现方式一致的用于随机波掩模生成的示例过程的流程图;

图5是与所公开的实现方式一致的用于在掩模区域中分布数据点的示例过程的流程图;

图6是与所公开的实现方式一致的用于生成随机波掩模的示例过程的流程图;

图7图示了与所公开的实现方式一致的被执行以生成随机波掩模的示例过程;

图8图示了与所公开的实现方式一致的随机波掩模的部分的示例;以及

图9是与所公开的实现方式一致的用于生成随机波掩模的示例过程的流程图。

具体实施方式

以下详细描述参照了附图。在任何可能的地方,在附图和以下描述中使用相同附图标记以指代相同或类似的部分。尽管在本文档中描述了若干示例,但修改、适配和其他实现是可能的。相应地,以下详细描述不限制所公开的示例。取而代之,所公开的示例的适当范围可以由所附权利要求限定。

如上所详述,一些打印设备可以包括数个错列的打印头,这些打印头包括重叠的小滴喷射元件。这样的打印设备的一个示例是页宽阵列(“PWA”)打印机。不同于一些传统打印机,PWA打印机可以不包括移动的滑动托架。取而代之,可以存在覆盖打印介质宽度且与打印介质路径正交地取向的打印头管芯的杆。该杆中的打印头组件可以包括重叠的管芯,并且该杆自身可以包括数千个小滴喷射元件,随着打印介质在基本上垂直的方向上在该杆之下移动,这些小滴喷射元件喷射打印流体的液滴。由于PWA打印机可以包括分散在多个重叠的PWA打印头管芯上的数千个喷嘴,因此打印流体从那些打印头管芯的喷射可以由掩模控制。在一个示例中,掩模可以使用鲜明的线形图案以在重叠的小滴喷射元件之间加以区分。然而,这些鲜明的线性掩模可能在存在穿过卷材的(例如,与打印介质移动垂直的)对准误差的情况下造成图像质量缺陷。例如,线性掩模可能造成人眼可容易检测到的对应于打印头之间的过渡的垂直线。其他缝合掩模可以使用规则的正弦图案,但由于图案的规则性,图像质量缺陷可能仍然可见。相应地,存在降低图像质量缺陷的可见性的需要。

本文公开的示例可以降低图像质量缺陷的可见性。为此,本文公开的示例实现方式可以通过基于概率密度函数在掩模区域中分布数据点来提供随机波掩模生成。例如,可以基于具有位于掩模区域的边缘(例如,第一边缘和第二边缘)处的最大概率密度的概率密度函数(例如,逆正态分布)来分布数据点。一些实现方式还可以识别拟合数据点的波形曲线(例如,包括变化振幅的振荡波形的曲线),并基于波形曲线来生成随机波掩模。

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