[发明专利]PARG抑制化合物

权利要求书

1.具有以下结构式(II)的化合物或其药学上可接受的盐：

其中：

R_1a选自氟、氯、氰基、甲酰基、(1-2C)烷基、(1-2C)卤代烷基、(2C)烯基或(2C)炔基；

R_1b、R_1c、R_1d和R_1e各自独立地选自H、氟或甲基；

X₁为CR₂；其中R₂是H或氟；

X₂为CR₃；其中R₃是H或氟；

X₃为CR₄；其中R₄为H、卤素、氰基或(1-2C)卤代烷基；

HET是具有下式的稠合的5元饱和、部分饱和或不饱和的杂环：

其中

键a任选是双键；

R₅是H、(1-4C)烷基或具有如下化学式的基团：

-L₁-L₅-Q₅

其中

L₁不存在或选自任选地被(1-2C)烷基或氧代基取代的(1-3C)亚烷基或任选地被(1-2C)烷基取代的(2-3C)亚烯基或(2-3C)亚炔基连接体；

L₅不存在或选自C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)N(R_a)、N(R_a)C(O)、N(R_a)C(O)N(R_b)、S(O)₂N(R_a)、N(R_a)SO₂，其中R_a和R_b各自独立地选自氢或(1-2C)烷基；以及

Q₅选自氢、(1-4C)烷基、苯基、5-6元杂芳基、(4-6C)环烷基、(4-6C)环烯基、(2C)烯基或5-6元杂环基；

并且其中Q₅任选被一个或多个选自(1-4C)烷基、卤素、氨基、氰基、羧基、氨基甲酰基、氨磺酰基、三氟甲氧基、卤代烷基、NR_cR_d、OR_c、C(O)R_c、C(O)OR_c、OC(O)R_c、C(O)N(R_c)R_d、N(R_c)C(O)R_d、S(O)_yR_c、SO₂N(R_c)R_d、N(R_c)SO₂R_d或(CH₂)_zNR_cR_d的取代基取代，其中R_c和R_d各自独立地选自H或(1-4C)烷基；

或Q₅任选地被具有如下化学式的基团取代；

-W₅-Y₅-Z₅

其中

W₅不存在或选自任选地被(1-2C)烷基或氧代基取代的(1-3C)亚烷基或任选地被(1-2C)烷基取代的(2-3C)亚烯基或(2-3C)亚炔基连接体；

Y₅不存在或选自C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)N(R_e)、N(R_e)C(O)、N(R_e)C(O)N(R_f)、S(O)₂N(R_e)、N(R_e)SO₂，其中R_e和R_f各自独立地选自氢或(1-2C)烷基；以及

Z₅选自氢、(1-4C)烷基；并且其中Z₅任选地被一个或多个选自(1-4C)烷基、卤素、(1-4C)卤代烷基、(1-4C)卤代烷氧基、(1-4C)烷氧基、(1-4C)烷基氨基、氨基、氰基、羟基、羧基、氨基甲酰基或氨磺酰基的取代基取代；

当键a为单键时，X₄选自C(＝O)、CHR_6c，或当键a为双键时X₄选自CR_6c或N；

其中

R_6c选自氢、或具有如下化学式的基团：

-L₆-L_6C-Q_6C

其中

L₆不存在或为任选地被(1-2C)烷基或氧代基取代的(1-3C)亚烷基；

L_6C不存在或选自O、S、SO、SO₂、N(R_g)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)N(R_g)、N(R_g)C(O)、N(R_g)C(O)N(R_h)、S(O)₂N(R_g)或N(R_g)SO₂，其中R_g和R_h各自独立地选自氢或(1-2C)烷基；以及

Q_6C是氢、(1-4C)烷基、(3-6C)环烷基、苯基、4-6元杂环基或5-6元杂芳基，其各自任选地被一个或多个选自以下的取代基取代：(1-4C)烷基、卤素、三氟甲基；

当键a为单键时，X₅选自C(＝O)、C(＝NH)、C(＝S)、CHR_7c或N-R_7N，或当键a为双键时X₅选自CR_7c或N；

其中

R_7c选自氢、氰基、卤素或具有如下化学式的基团：

-L₇-L_7C-Q_7C

其中

L₇不存在或为任选地被(1-2C)烷基或氧代基取代的(1-3C)亚烷基；

L_7C不存在或选自O、S、SO、SO₂、N(R_o)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)N(R_o)、N(R_o)C(O)、N(R_o)C(O)N(R_p)、S(O)₂N(R_o)或N(R_o)SO₂，其中R_o和R_p各自独立地选自氢或(1-2C)烷基；以及

Q_7C是氢、氰基、(1-6C)烷基、(2C)炔基、(2-3C)烯基、(3-6C)环烷基、苯基、4-6元杂环基或5-6元杂芳基；并且其中Q_7C任选地被一个或多个选自(1-4C)烷基、卤素、三氟甲基、三氟甲氧基、氰基、硝基、羟基、氨基、羧基、氨基甲酰基、氨磺酰基、NR_qR_r、OR_q、C(O)R_q、C(O)OR_q、OC(O)R_q、C(O)N(R_q)R_r、N(R_q)C(O)R_r、S(O)_yR_q、SO₂N(R_q)R_r、N(R_q)SO₂R_r或(CH₂)_zNR_qR_r的取代基取代，其中R_q和R_r各自独立地选自H或(1-4C)烷基；或者

Q_7C任选被具有如下化学式的基团取代：

-W_7C-L_7’-Z_7C

其中

W_7C不存在或为被(1-2C)烷基或氧代基取代的(1-3C)亚烷基；

L_7’不存在或选自C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)N(R_s)、N(R_s)C(O)、N(R_s)C(O)N(R_t)、S(O)₂N(R_s)、N(R_s)SO₂，其中R_s和R_t各自独立地选自氢或(1-2C)烷基；以及

Z_7C是苯基或5-6元杂芳基；其中每一个任选地被一个或多个选自(1-4C)烷基、卤素、(1-4C)卤代烷基、(1-4C)卤代烷氧基、(1-4C)烷氧基、(1-4C)烷基氨基、氨基、氰基、羟基、羧基、氨基甲酰基或氨磺酰基的取代基取代；

R_7N选自氢或具有如下化学式的基团：

-L₇₁-L_7N-Q_7N

其中

L₇₁不存在或为任选地被(1-2C)烷基取代的(1-3C)亚烷基；

L_7N不存在或选自O、S、SO、SO₂、N(R_u)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)N(R_u)、N(R_u)C(O)、N(R_u)C(O)N(R_v)、S(O)₂N(R_u)或N(R_u)SO₂，其中R_u和R_v各自独立地选自氢或(1-2C)烷基；以及

Q_7N是氢、氰基、(1-6C)烷基、(2C)炔基、(2-3C)烯基、(3-6C)环烷基、苯基、4-6元杂环基或5-6元杂芳基，其各自任选地被一个或多个选自以下的取代基取代：(1-4C)烷基、卤素、三氟甲基、三氟甲氧基、氰基、羟基、氨基、羧基、氨基甲酰基、氨磺酰基、NR_wR_x、OR_w、C(O)R_w、C(O)OR_w、OC(O)R_w、C(O)N(R_w)R_x、N(R_w)C(O)R_x、S(O)_yR_w、SO₂N(R_w)R_x、N(R_w)SO₂R_x或(CH₂)_zNR_wR_x，其中R_w和R_x各自独立地选自H或(1-4C)烷基；或者

Q_7N任选被具有如下化学式的基团取代：

-W_7N-L_71’-Z_7N

其中

W_7N不存在或为任选地被(1-3C)烷基取代的(1-3C)亚烷基；

L_71’不存在或选自C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)N(R_y)、N(R_y)C(O)、N(R_y)C(O)N(R_z)、S(O)₂N(R_y)、N(R_y)SO₂，其中R_y和R_z各自独立地选自氢或(1-2C)烷基；并且

Z_7N是苯基或5-6元杂芳基；其中每一个任选地被一个或多个选自(1-4C)烷基、卤素、(1-4C)卤代烷基、(1-4C)卤代烷氧基、(1-4C)烷氧基、(1-4C)烷基氨基、氨基、氰基、羟基、羧基、氨基甲酰基或氨磺酰基的取代基取代；

其中，各y为0、1或2；

各z为1、2或3；

各杂芳基和各杂环基具有1-4个选自N、O和S的杂原子环顶点；

其前提是：

(i)R_1b-e中的仅一个或两个选自H以外的任何取代基；

(ii)Het包含多达2个环氮原子；以及

(iii)X₄或X₅中仅一个选自C(＝O)、C(＝NH)或C(＝S)。