[发明专利]激光系统和激光退火装置在审
申请号: | 201580075815.9 | 申请日: | 2015-03-16 |
公开(公告)号: | CN107251341A | 公开(公告)日: | 2017-10-13 |
发明(设计)人: | 大久保智幸;池上浩;柿崎弘司;上场康弘;若林理 | 申请(专利权)人: | 国立大学法人九州大学;极光先进雷射株式会社 |
主分类号: | H01S3/00 | 分类号: | H01S3/00;H01L21/20;H01L21/268;H01S3/0975;H01S3/23 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 李辉,龚晓娟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 激光 系统 退火 装置 | ||
1.一种激光系统,其是作为对被加工物照射脉冲激光的激光退火装置的光源的激光系统,其中,该激光系统具备:
激光装置,其生成所述脉冲激光;
脉冲时间波形可变装置,其能够改变所述脉冲激光的脉冲时间波形;以及
控制部,其从所述激光退火装置接收脉冲时间波形生成参数,对所述脉冲时间波形可变装置进行控制。
2.根据权利要求1所述的激光系统,其中,
所述脉冲时间波形可变装置具备:
分束器,其将从所述激光装置输出的所述脉冲激光分支为第一光路和第二光路;
反射率可变部,其能够改变入射到所述分束器中的所述脉冲激光的反射率;
延迟光学系统,其形成延迟光路,该延迟光路使在所述第二光路上前进的脉冲激光再次入射到所述分束器中,以由所述分束器进一步分支到所述第一光路和所述第二光路;以及
光路长度可变部,其能够改变所述延迟光路的光路长度,
所述脉冲时间波形生成参数包含所述反射率的目标值和所述光路长度的目标值,
所述控制部对所述反射率可变部和所述光路长度可变部进行控制,以使得所述反射率和所述光路长度分别接近所述反射率的目标值和所述光路长度的目标值。
3.根据权利要求1所述的激光系统,其中,
所述激光装置具备输出第一脉冲激光的第一激光部和输出第二脉冲激光的第二激光部,
所述脉冲时间波形可变装置具备:
延迟电路,其能够改变分别从所述第一激光部和所述第二激光部输出的所述第一脉冲激光和所述第二脉冲激光的脉冲时间间隔;以及
充电器,其分别设置在所述第一激光部和所述第二激光部,能够改变充电电容器的充电电压,以便使所述第一脉冲激光与所述第二脉冲激光的光强度比可变,
所述脉冲时间波形生成参数包含所述第一脉冲激光和所述第二脉冲激光的脉冲时间间隔的目标值以及所述第一脉冲激光和所述第二脉冲激光的光强度比的目标值,
所述控制部对所述延迟电路、所述第一激光部中具备的所述充电器和所述第二激光部中具备的所述充电器进行控制,以使得所述脉冲时间间隔和所述光强度比分别接近所述脉冲时间间隔的目标值和所述光强度比的目标值。
4.一种激光退火装置,其是对被加工物照射脉冲激光的激光退火装置,其中,该激光退火装置具备:
激光装置,其生成所述脉冲激光;
脉冲时间波形可变装置,其能够改变所述脉冲激光的脉冲时间波形;
光学系统,其对所述被加工物照射所述脉冲激光;
能量密度可变部,其能够改变所述被加工物处的所述脉冲激光的能量密度;以及
控制部,其根据包含脉冲时间波形生成参数以及所述被加工物处的所述脉冲激光的能量密度的目标值在内的照射条件参数,对所述脉冲时间波形可变装置和所述能量密度可变部进行控制。
5.根据权利要求4所述的激光退火装置,其中,
该激光退火装置从外部装置接收所述照射条件参数;
所述控制部根据接收到的所述照射条件参数对所述脉冲时间波形可变装置和所述能量密度可变部进行控制。
6.根据权利要求4所述的激光退火装置,其中,
所述脉冲时间波形可变装置具备:
分束器,其将从所述激光装置输出的所述脉冲激光分支为第一光路和第二光路;
反射率可变部,其能够改变入射到所述分束器中的所述脉冲激光的反射率;
延迟光学系统,其形成延迟光路,该延迟光路使在所述第二光路上前进的脉冲激光再次入射到所述分束器中,以由所述分束器进一步分支到所述第一光路和所述第二光路;以及
光路长度可变部,其能够改变所述延迟光路的光路长度,
所述脉冲时间波形生成参数包含所述反射率的目标值和所述光路长度的目标值,
所述控制部对所述反射率可变部和所述光路长度可变部进行控制,以使得所述反射率和所述光路长度分别接近所述反射率的目标值和所述光路长度的目标值。
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