[发明专利]热蒸发器有效

专利信息
申请号: 201580076669.1 申请日: 2015-03-11
公开(公告)号: CN107250422B 公开(公告)日: 2019-09-06
发明(设计)人: B·麦克拉迪;A·马蒂厄;C·马克苏德;T·L·雅各布斯 申请(专利权)人: 依视路国际公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 张振军;刘娜
地址: 法国沙*** 国省代码: 法国;FR
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摘要:
搜索关键词: 蒸发器
【说明书】:

在此描述了用于用包括疏水性涂层的至少两个功能涂层涂覆基材的气相沉积装置和方法。一些实施例包括至少具有第一蒸发器和第二蒸发器的气相沉积装置,其中将被配置成施加该疏水性涂层的蒸发器升高到另一个蒸发器上方并且因此更接近该基材。其他实施例包括用此类蒸发器并且以不同距离来涂覆基材的方法。本披露的实施例可对于涂覆眼镜镜片是有用的。还披露了其他实施例。

技术领域

发明总体上涉及与基材的气相沉积有关的装置、系统和方法,并且更具体地涉及(但绝非限制性地)将疏水性材料气相沉积到光学基材上。

背景技术

可以将多种类型的功能涂层施加到光学基材,如眼镜镜片上。例如,对于一对眼镜镜片并不罕见的是具有三至四个不同的涂层,如减反射涂层(减少来自镜片的光反射的薄的多层涂层)、耐刮擦涂层、抗静电涂层和疏水性涂层。

在制造眼镜镜片时,单一机器可以施加多于一个的不同涂层。例如,气相沉积机器可以用于将减反射涂层和疏水性涂层施加到多个眼镜上。改进此类机器的涂覆效率可以是有益的。

发明内容

本披露的一个方面针对一种用于将两种或更多种功能层气相沉积到基材上的装置,其中这些功能层之一是疏水性层,并且疏水性材料的蒸发源比一个或多个其他功能层更接近该基材。在一些实施例中,气相沉积装置包括:真空室,该真空室具有被布置在该室的一部分中或限定该室的一部分的底板;基材固持器,该基材固持器被布置在该真空室中底板上方并且被配置成接收至少一个基材;第一蒸发器,该第一蒸发器被布置在该真空室中该基材固持器下方中并且被配置成具有相对于该基材在第一竖直距离处的第一蒸发源。该第一蒸发器被配置用于电子束蒸发、离子辅助蒸发或离子束溅射;并且第二蒸发器被布置在该真空室中基材固持器下方并且被配置成具有相对于该基材在第二竖直距离处的第二蒸发源,该第二蒸发器被适配用于电阻蒸发或适合于疏水性材料的另一种类型的蒸发,使得该疏水性材料在该基材上形成疏水性涂层。在一些实施例中,该第二竖直距离小于该第一竖直距离的75%或小于60%。在一些实施例中,该第二蒸发器不与在该第一蒸发器与该基材之间的蒸气路径相交。在一些实施例中,该基材固持器关于旋转轴线是可旋转的,该旋转轴线基本上垂直于该真空室的底板。在一些实施例中,该第二蒸发源比该基材固持器的旋转轴线更接近限定该真空室的壁。在一些实施例中,该第二蒸发器包括坩埚和两个至少20cm长度的导电杆,其中每个杆具有第一端和第二端,并且其中这两个导电杆的至少一部分相对于该真空室的底板向上延伸,并且该坩埚被电联接到每个导电杆的第一端处,该第一端比该第二端更靠近该基材。在一些实施例中,该装置包括布置在该坩埚中的疏水性材料。在一些实施例中,该疏水性材料是氟聚合物。在一些实施例中,该坩埚包括钼、钽、钨、铜和钢中的一种或多种。在一些实施例中,该第二蒸发器是无遮板的。在一些实施例中,该第一蒸发器被适配为施加减反射涂层。在一些实施例中,金属氧化物被布置在该第一蒸发源中。

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