[发明专利]从多晶金刚石中电化学去除金属或其他物质有效
申请号: | 201580077867.X | 申请日: | 2015-06-03 |
公开(公告)号: | CN107406996B | 公开(公告)日: | 2019-06-04 |
发明(设计)人: | 梁齐 | 申请(专利权)人: | 哈利伯顿能源服务公司 |
主分类号: | C25F5/00 | 分类号: | C25F5/00 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 金鹏 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多晶 金刚石 电化学 去除 金属 其他 物质 | ||
1.一种用于从PCD元件中电化学去除金属或其他物质的系统,所述系统包括:
阳极,其包括所述PCD元件,所述PCD元件包括包含所述金属或所述其他物质和导电性增强部分的PCD部件;
阴极;
电解液;以及
电压源,
其中所述导电性增强区域包含键合到所述PCD元件表面上的碳(C)的氢(H)或氟(F)或其组合,并且其中所述导电性是p型;并且
其中,当通过所述电压源将电压施加到所述阳极和所述阴极时,所述金属或所述其他物质形成正离子并且从所述PCD部件中去除到所述电解液。
2.一种用于从PCD元件中电化学去除金属或其他物质的系统,所述系统包括:
阳极,其包括所述PCD元件,所述PCD元件包括包含所述金属或所述其他物质和导电性增强部分的PCD部件;
阴极;
电解液;以及
电压源,
其中所述导电性增强区域包含硼(B)、铝(Al)、磷(P)或锂(Li)或其组合作为掺杂剂,并且其中所述导电性产生自掺杂;并且
其中,当通过所述电压源将电压施加到所述阳极和所述阴极时,所述金属或所述其他物质形成正离子并且从所述PCD部件中去除到所述电解液。
3.如权利要求1或2所述的系统,其中所述金属包括第VIII族金属。
4.如权利要求3所述的系统,其中所述第VIII族金属包括钴(Co)。
5.如权利要求1或2所述的系统,其中所述导电性增强部分包括所述PCD部件的表面的至少一部分。
6.如权利要求5所述的系统,其中所述导电性增强部分包括所述PCD部件的顶表面的至少一部分。
7.如权利要求5所述的系统,其中所述导电性增强部分包括所述PCD部件的侧表面的至少一部分。
8.如权利要求5所述的系统,其中所述导电性增强部分包括所述PCD部件的顶表面的至少一部分、侧表面的至少一部分以及底表面的至少一部分。
9.如权利要求1或2所述的系统,其中所述导电性增强部分包括基本上全部的所述PCD部件。
10.如权利要求1或2所述的系统,其中所述电解液是包含硫酸根(SO42-)、氯离子(Cl-)或硝酸根(NO3-)或其组合的水性电解液。
11.如权利要求1或2所述的系统,其中所述金属包括钴(Co),并且所述电解液包含铁(Fe)。
12.如权利要求1或2所述的系统,其中至少两种金属或其他物质形成正离子并且从所述PCD部件中去除到所述电解液。
13.如权利要求1所述的系统,其中所述氢(H)或氟(F)或其组合是等离子体沉积的。
14.如权利要求1所述的系统,其中使用高温退火过程沉积所述氢(H)或氟(F)或其组合。
15.如权利要求2所述的系统,其中使用高剂量离子注入将所述硼(B)、铝(Al)或磷(P)或其组合注入所述PCD部件的表面中。
16.如权利要求2所述的系统,其中在形成所述PCD部件之前,将所述硼(B)、铝(Al)、磷(P)或锂(Li)或其组合添加到所述PCD部件中含有的金刚石晶粒。
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