[发明专利]芳香族锍盐化合物、光产酸剂、抗蚀剂组合物、阳离子聚合引发剂和阳离子聚合性组合物

说明书

技术领域

本发明涉及芳香族锍盐化合物、光产酸剂、抗蚀剂组合物、阳离子聚合引发剂和阳离子聚合性组合物，详细来说，涉及对基板的腐蚀性低、且光刻特性优异的对光产酸剂和阳离子聚合剂有用的芳香族锍盐化合物、使用其的光产酸剂、抗蚀剂组合物、阳离子聚合引发剂和阳离子聚合性组合物。

背景技术

锍盐化合物是受到光等能量射线照射而产生酸的物质，被用于半导体等的电子电路形成中使用的光刻用抗蚀剂组合物中的光产酸剂、或光造型用树脂组成物、涂料、涂覆剂、粘接剂等光聚合性组合物中的阳离子聚合引发剂等。

关于锍盐化合物，例如专利文献1中公开了一种香豆素衍生物，但其仅作为降血糖剂而公开，仅记载对于糖尿病的治疗、预防有用，未记载能够将该香豆素衍生物作为光产酸剂来使用。另外，在专利文献2中公开了包含具有香豆素骨架的锍盐的阳离子聚合引发剂，在专利文献3中公开了作为光阳离子性聚合引发剂、化学放大型抗蚀剂用产酸剂等有用的含杂环的锍盐。但是，作为香豆素骨架的取代基，未暗示烷氧基和芳烷氧基，此外，未暗示在香豆素骨架的3位具有锍的结构。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平9-052891号公报

专利文献2：日本特开平11-035613号公报

专利文献3：日本专利4341406号公报

发明内容

发明要解决的问题

抗蚀剂组合物、阳离子聚合性组合物是通过以薄膜状或溶液状层压或涂布在基材上来使用的。因此，对于被用于抗蚀剂组合物、阳离子聚合性组合物中的光产酸剂、阳离子聚合性组合物，要求对基板的腐蚀性低且具有优异的光刻特性。然而，关于这些方面与取代基的种类、位置的关系，在专利文献1～3中并未进行充分地研究。

因此，本发明的目的在于，提供对基板的腐蚀性低、且光刻特性优异的对光产酸剂和阳离子聚合剂有用的芳香族锍盐化合物、使用其的光产酸剂、抗蚀剂组合物、阳离子聚合引发剂和阳离子聚合性组合物。

用于解决问题的方案

本发明人等为了解决上述问题进行了深入研究，结果发现，如果是含有具备具有特定结构的有机磺酸阴离子的芳香族锍盐化合物而成的光产酸剂和阳离子聚合引发剂，则可以解决上述问题，从而完成了本发明。

即，本发明的芳香族锍盐化合物的特征在于，如下述通式(I)所示，

(式(I)中，R¹～R¹⁰各自独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、硝基、氰基、任选具有取代基的碳原子数1～18的烷基、任选具有取代基的碳原子数6～20的芳基、或者任选具有取代基的碳原子数7～20的芳基烷基，R¹～R¹⁰表示的碳原子数1～18的烷基、碳原子数6～20的芳基和碳原子数7～20的芳基烷基中的亚甲基链任选被-O-、-S-、-CO-、-CO-O-或O-CO-中断，R¹¹～R¹⁵各自独立地表示氢原子、任选具有取代基的碳原子数1～18的烷氧基、任选具有取代基的碳原子数7～20的芳基烷氧基、任选具有取代基的碳原子数1～18的硫代烷基、任选具有取代基的碳原子数7～20的芳基硫代烷基、或者-NRR’，R和R’各自独立地表示氢原子、碳原子数1～10的烷基或者碳原子数6～12的芳基，R¹¹～R¹⁵中的1个以上不是氢原子，X₁^-表示1价的有机磺酸阴离子。)。

另外，本发明的其它芳香族锍盐化合物的特征在于，如下述通式(Ⅱ)所示，

(式(Ⅱ)中，R¹～R¹⁰和X₁^-与上述通式(I)相同，Y表示碳原子数1～18的烷基或者碳原子数7～20的芳基烷基。)。

本发明中的光产酸剂的特征在于，其包含本发明的芳香族锍盐化合物。

本发明的抗蚀剂组合物的特征在于，其含有本发明的光产酸剂。

本发明的抗蚀剂组合物优选为i线用正型或负型。

本发明的阳离子聚合引发剂的特征在于，其包含本发明的芳香族锍盐化合物。