[发明专利]具有氮化铬涂层的金属带或薄片、双极板以及相关的制造方法在审

专利信息
申请号: 201580078004.4 申请日: 2015-03-20
公开(公告)号: CN107406961A 公开(公告)日: 2017-11-28
发明(设计)人: 宝琳·吉拉尔东;塞巴斯蒂安·塔浩恩;简-米歇尔·达马瑟;玛丽-海伦·伯杰;休斯·科尔尼;奥利维尔·赫诺特;阿兰·彼马德 申请(专利权)人: 艾普伦
主分类号: C23C14/00 分类号: C23C14/00;C23C14/02;C23C14/04;C23C14/06;C23C14/54;C23C14/56;H01M8/0204
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司11270 代理人: 张辛睿,姚开丽
地址: 卢森堡大公*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 氮化 涂层 金属 薄片 极板 以及 相关 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种金属的带(1;1’)或薄片,所述金属的带或薄片包括由覆盖有至少一层基于氮化铬的涂覆层(5;5’)的不锈钢制成的基体(3;3’),其特征在于,所述基于氮化铬的涂覆层(5;5’)是有纹理的。

2.根据权利要求1所述的带(1;1’)或薄片,其中,所述涂覆层(5;5’)与所述基体(3;3’)具有外延附生关系。

3.根据权利要求1或2所述的带(1;1’)或薄片,其中,使用物理气相沉积方法,尤其是通过阴极喷镀来得到所述基于氮化铬的涂覆层(5;5’)。

4.根据前述权利要求中任一项所述的带(1;1’)或薄片,其中,所述基于氮化铬的涂覆层(5;5’)直接形成于所述不锈钢基体(3;3’)上,而没有钝化层(10)的介入。

5.根据前述权利要求中任一项所述的带(1;1’)或薄片,其中,所述基体(3;3’)具有介于75微米到200微米之间的厚度,并且尤其具有小于或等于100微米的厚度。

6.根据前述权利要求中任一项所述的带(1;1’)或薄片,其中,所述基体(3;3’)的晶粒具有严格小于50微米的尺寸,并且尤其具有介于10微米到30微米之间的尺寸。

7.根据前述权利要求中任一项所述的带(1;1’)或薄片,其中,所述涂覆层(5;5’)具有柱状结构,优选地,柱的宽度介于所述涂覆层(5;5’)的厚度的10%到20%之间。

8.根据前述权利要求中任一项所述的带(1;1’)或薄片,其中,所述涂覆层(5’)可选地包括氧,所述涂覆层(5’)通过物理气相沉积(PVD)而得到,其特征在于,所述涂覆层(5’)在其表面上具有表面区域(8),所述表面区域包含的原子氧含量严格小于其原子氮含量。

9.根据权利要求8所述的金属的带(1;1’)或薄片,其中,所述表面区域(8)具有的高度小于或等于所述涂覆层(5’)的总厚度的15%。

10.根据权利要求8或9所述的金属的带(1’)或薄片,其中,所述涂覆层(5’)在与所述基体(3’)的交界面处包括界面区域(6),所述界面区域包括的原子氧含量严格小于其原子氮含量。

11.根据权利要求10所述的金属的带(1’)或薄片,其中,所述界面区域(6)具有的高度小于或等于所述涂覆层(5;5’)的总厚度的15%。

12.根据权利要求8至11中的任一项与权利要求10相结合所述的金属的带(1’)或薄片,从所述基体(3’)开始并趋向所述涂覆层(5’)的表面,所述金属的带或薄片由界面区域(6)、核芯区域(7)以及表面区域(8)组成,所述界面区域、核芯区域以及表面区域(6,7,8)沿与所述基体(3’)的中间平面垂直的方向叠覆。

13.一种板(13),所述板是通过使根据前述权利要求中任一项所述的带(1;1’)或薄片发生变形而得到的。

14.一种用于燃料电池的双极板(11),所述双极板包括至少一个根据权利要求13所述的板(13)。

15.一种用于制造金属的带(1;1’)或薄片的方法,所述方法包括以下步骤:

-提供不锈钢基体(3;3’),所述不锈钢基体在其表面上包括由于所述基体(3;3’)的不锈钢的自然氧化而形成的钝化层(10);

-在所述基体(3;3’)的至少某些区域中完全地剥离所述钝化层(10);

-将氮化铬沉积在所述基体(3;3’)的在其中所述钝化层(10)已被剥离的区域上,以在所述不锈钢基体(3;3’)上直接形成基于氮化铬的涂覆层(5;5’),而没有钝化层(10)的介入,由此形成的所述涂覆层(5;5’)是有纹理的。

16.根据权利要求15所述的方法,其中,由此形成的所述涂覆层(5;5’)与所述基体(3;3’)具有外延附生关系。

17.根据权利要求15或16所述的方法,其中,所述剥离是一种物理剥离。

18.根据权利要求15至17中的一项所述的方法,其中,使用物理气相沉积方法,尤其是通过阴极喷镀来沉积所述基于氮化铬的涂覆层(5;5’)。

19.根据权利要求18所述的方法,其中,所述氮化铬在沉积设备中被沉积在所述基体(3’)上,所述沉积设备包括沉积室(20)以及被布置在所述沉积室(20)中的铬靶材(22),所述基体(3’)沿纵向方向行进穿过所述沉积室(20),

所述沉积室(20)包括:沉积区域(30;30’),沿所述纵向方向考虑,所述沉积区域的长度严格小于所述沉积室(20)的长度;以及至少包括第一禁止区域(32),所述第一禁止区域沿所述纵向方向与所述沉积区域(30;30’)相邻,以及

在沉积期间,氮化铬仅在所述沉积区域(30;30’)中被沉积在基体(3’)上,并且在所述第一禁止区域(32)中没有氮化铬被沉积在所述基体(3’)上。

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