[发明专利]治疗计划装置及粒子射线治疗装置

说明书

技术领域

本发明涉及通过照射粒子射线来进行癌症治疗等应用粒子射线的粒子射线治疗装置，特别涉及治疗计划装置。

背景技术

粒子射线治疗装置的粒子射线照射方法大致分为2种方法,即广域照射法和扫描照射法。作为广域照射法的一种的摇摆法(wobbler method)中，用扫描电磁铁以画圆的方式使带电粒子射线进行扫描并扩散，沿着被照射物的形状对扩散后的带电粒子射线进行整形并照射。所谓扫描照射法是指利用扫描电磁铁使带电粒子射线在被照射物上扫描并照射的方法。一般，在扫描照射法中，对每个照射位置进行剂量管理来进行照射。另一方面，在摇摆法所代表的广域照射法中，不对每个照射位置进行剂量管理，而是进行照射区域整体的剂量管理来进行照射。

摇摆法是以往所使用的照射方法，具有临床上的实效较多这一优点，但与此相反地，存在对于每个患者必须制作用于重现患部的远端形状的物块(通常为树脂制)这样的缺点。

扫描法具有能自由度较高地照射三维形状这样的优点，但与此相反地，存在以下方面的缺点：由于是近年来的技术，因此临床上的实效没有广域照射法多；而且在制作治疗计划时需要花费时间来进行最优化的计算。

从粒子射线治疗装置的照射系统开发的观点来看，首先开发的是广域法的照射嘴，接着开发了扫描法的扫描嘴。当时的装置购买者必须择一地决定1个治疗室中的照射系统是广域照射法的照射嘴还是扫描照射法的照射嘴，但是之后提出了用1个照射嘴既能实现广域照射又能实现扫描照射的照射嘴，还提出了在1个吊架上搭载2个照射系统(专利文献1)，治疗法的自由度变高。

在1个照射系统的照射嘴中，还已知有以下的照射嘴：使广域照射单元和扫描照射单元中的任一方动作，并且将另一方设为躲避状态从而使其不妨碍带电粒子射线的照射(专利文献2、3)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2010－158479号公报

专利文献2：日本专利特开2009－236867号公报

专利文献3：国际公开WO2013/011583号

发明内容

发明所要解决的技术问题

由此，搭载2个照射系统的吊架、能以1个照射嘴对应广域照射和扫描照射的照射嘴已被投入使用，但其使用方法仍是为1个患者择一地决定1个照射方法来进行照射。这存在以下问题：在选择了广域照射法时广域照射法的上述缺点依然存在，在选择了扫描照射法时扫描照射法的上述缺点依然存在。

本发明鉴于上述问题，其目的在于通过对1个患部进行广域照射和扫描照射，从而实现发挥了各自长处的自由度较高的高精度的照射。

解决技术问题的技术方案

本发明的治疗计划装置制定粒子射线治疗装置的治疗计划，该粒子射线治疗装置能够在扫描照射和广域照射之间进行切换来将从加速器射出的粒子射线照射至照射对象，其中，所述扫描照射由具备用于进行扫描照射的扫描照射用构件的照射嘴进行，使粒子射线移动并且管理照射对象的每个位置的照射剂量来进行照射，所述广域照射由具备用于进行广域照射的广域照射用构件的照射嘴进行，管理照射对象的总照射剂量来进行照射，该治疗计划装置包括：保存要照射至照射对象的目标照射剂量分布的数据统辖管理部；计算广域照射时的加速器和照射嘴各设备的动作参数的广域照射参数运算部；以及计算扫描照射时的加速器和照射嘴各设备的动作参数的扫描照射参数运算部，广域照射参数运算部与扫描照射参数运算部协同地计算并求出广域照射时的加速器和照射嘴各设备的动作参数、以及扫描照射时的加速器和照射嘴各设备的动作参数，从而利用广域照射和扫描照射这两者的照射剂量的总和来形成目标照射剂量分布。

发明效果

根据本发明所涉及的治疗计划装置，能在短时间内制成治疗计划，并能实现高精度地将剂量提供给各种形状的患部的粒子射线治疗装置。

附图说明

图1是示出本发明的实施方式1的包含治疗计划装置的粒子射线治疗装置的整体结构的框图。

图2是搭载于适用本发明的治疗计划装置的粒子射线治疗装置的照射嘴的一个示例中具备扫描照射用构件的状态的侧视图。

图3是搭载于适用本发明的治疗计划装置的粒子射线治疗装置的照射嘴的一个示例中具备广域照射用构件的状态的侧视图。

图4是搭载于适用本发明的治疗计划装置的粒子射线治疗装置的具备2个照射系统的照射装置的一个示例的示意图。