[发明专利]干涉条纹投影光学系统和形状测定装置有效
申请号: | 201580079242.7 | 申请日: | 2015-05-18 |
公开(公告)号: | CN107532888B | 公开(公告)日: | 2020-05-26 |
发明(设计)人: | 松本浩司 | 申请(专利权)人: | 奥林巴斯株式会社 |
主分类号: | G01B11/25 | 分类号: | G01B11/25 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 黄纶伟;于英慧 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 干涉 条纹 投影 光学系统 形状 测定 装置 | ||
1.一种干涉条纹投影光学系统,其具有:
干涉条纹生成光学系统,其以平行的状态并列地射出两个光束而生成干涉条纹;以及
放大光学系统,其将所述干涉条纹放大而投影到物体表面上,
所述放大光学系统由形成所述干涉条纹的光束所入射的一侧的入射侧透镜组和射出所述光束而朝向所述物体表面投影所述干涉条纹的一侧的射出侧透镜组构成,
在设所述入射侧透镜组的焦距为f1,设所述射出侧透镜组的焦距为f2时,f1/f2>3,
所述入射侧透镜组和所述射出侧透镜组分别具有正屈光力,在设从所述入射侧透镜组的射出侧主点到所述射出侧透镜组的入射侧主点的距离为xd时,满足xd/(f1+f2)<2,
从所述干涉条纹生成光学系统射出的平行的两个光束通过所述放大光学系统而平行地射出,与入射所述放大光学系统前相比,从所述放大光学系统射出后的所述两个光束的中心光线的距离缩小,从所述放大光学系统射出后的所述两个光束的扩展角增大。
2.根据权利要求1所述的干涉条纹投影光学系统,其特征在于,
所述干涉条纹生成光学系统具有并列地位于所述放大光学系统的入射侧的两个光射出部。
3.根据权利要求2所述的干涉条纹投影光学系统,其特征在于,
所述两个光射出部由两根光纤各自的射出端面构成。
4.根据权利要求1所述的干涉条纹投影光学系统,其特征在于,
所述干涉条纹生成光学系统具有:
光射出部,其配置在所述放大光学系统的入射侧;以及
双折射元件,其并列形成多个该光射出部的实像或虚像。
5.根据权利要求4所述的干涉条纹投影光学系统,其特征在于,
所述双折射元件配置在所述光射出部与所述放大光学系统之间。
6.根据权利要求4所述的干涉条纹投影光学系统,其特征在于,
所述双折射元件配置在所述放大光学系统的射出侧。
7.根据权利要求2至6中的任意一项所述的干涉条纹投影光学系统,其特征在于,
所述放大光学系统将所述光射出部的像形成在比该放大光学系统靠射出侧的位置。
8.根据权利要求7所述的干涉条纹投影光学系统,其特征在于,
该干涉条纹投影光学系统还具有玻璃板,该玻璃板配置在比所述光射出部的像靠射出侧的位置。
9.根据权利要求1所述的干涉条纹投影光学系统,其特征在于,
所述入射侧透镜组和所述射出侧透镜组分别由单个透镜构成。
10.根据权利要求9所述的干涉条纹投影光学系统,其特征在于,
所述入射侧透镜组由入射侧为平面且射出侧为凸面的平凸透镜构成。
11.根据权利要求9或10所述的干涉条纹投影光学系统,其特征在于,
所述射出侧透镜组由球透镜构成。
12.根据权利要求11所述的干涉条纹投影光学系统,其特征在于,
所述球透镜由使用波长处的折射率n为1.7以上的玻璃材料构成。
13.一种干涉条纹投影光学系统,其中,
该干涉条纹投影光学系统具有多个权利要求1至12中的任意一项所述的干涉条纹投影光学系统,
通过多个所述干涉条纹投影光学系统以分时的方式互补地对干涉条纹的投影区域投影干涉条纹。
14.一种形状测定装置,其具有:
权利要求1至13中的任意一项所述的干涉条纹投影光学系统;
摄像部,其拍摄所述干涉条纹的投影像作为图像;以及
运算部,其根据来自该摄像部的图像信号来对所述物体表面的凹凸信息进行运算。
15.一种形状测定装置,其具有:
权利要求2至8中的任意一项所述的干涉条纹投影光学系统;
摄像部,其拍摄在靠所述光射出部侧的所述物体表面上投影的所述干涉条纹作为图像;以及
运算部,其根据来自该摄像部的图像信号来对所述物体表面的凹凸信息进行运算。
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