[发明专利]曝光调节因子有效

专利信息
申请号: 201580079506.9 申请日: 2015-07-30
公开(公告)号: CN107567601B 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: M·赫斯特;B·拉森;M·肖 申请(专利权)人: 惠普发展公司;有限责任合伙企业
主分类号: G03G15/045 分类号: G03G15/045;G03G15/043
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 徐红燕;陈岚
地址: 美国德*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 曝光 调节 因子
【权利要求书】:

1.一种电子照相成像器,包括:

光电导元件;

充电器,用以对光电导元件的表面充电;

光源,用以使已充电表面的区域曝光以形成潜像;

显影元件,其相对耦合到光电导元件以经由已充电的标记剂将潜像显影在光电导元件上;以及

控制器,用以将曝光调节因子选择性地应用于潜像的第一可打印区域,其中曝光调节因子的大小至少基于关于在第一可打印区域之前的潜像的第一评价部分的标记剂转移需求以及基于针对第一评价部分的显影元件的显影状态,

其中,标记剂转移需求指示要经由潜像的第一评价部分的显影而转移的标记剂的量,标记剂的量是基于潜像的可打印区域的像素密度参数,

并且其中,显影元件的显影状态是基于关于已充电的标记剂的量的显影元件上的位置、以及关于自显影元件上的该位置处的上次显影使用以来的龄期。

2.根据权利要求1所述的电子照相成像器,其中潜像的第一评价部分包括潜像的第二可打印区域,其中标记剂转移需求至少与第二可打印区域的像素密度对应。

3.根据权利要求1所述的电子照相成像器,其中潜像的第一评价部分包括潜像的非可打印区域,其与显影元件的至少一个无显影区域对应。

4.根据权利要求1所述的电子照相成像器,其中控制器与存储器相关联,所述存储器用以在逐像素的基础上存储关于显影元件的显影状态的映射。

5.根据权利要求4所述的电子照相成像器,其中显影状态包括显影元件上的位置和在所述位置处的无显影的相对龄期。

6.根据权利要求1所述的电子照相成像器,控制器用以将曝光调节因子选择性地应用于在介质行进的方向上沿着潜像连续地布置的多个可打印区域,并且其中所述多个可打印区域包括第一可打印区域,并且

其中每个不同的可打印区域与显影元件的多个无显影区域中的相应无显影区域对应。

7.根据权利要求1所述的电子照相成像器,其中用于一系列可打印区域中的相应可打印区域的至少第一显影的曝光调节因子具有第一值,并且其中用于所述系列中的相继的可打印区域的至少一些后续显影的曝光调节因子具有与第一值不同的第二值。

8.根据权利要求1所述的电子照相成像器,其中是否要选择性地应用曝光调节因子的决定至少部分地基于显影元件的再充电间隔和在每个再充电循环内对显影元件再充电的再充电速率。

9.根据权利要求1所述的电子照相成像器,其中是否要选择性地应用曝光调节因子的决定至少部分地基于第一可打印区域的像素密度针对其进行比较的阈值。

10.一种电子照相成像器控制部分,包括:

处理器,其与存储在存储器中的指令相关联,以在光电导元件上的潜像的第一可打印部分处在光电导元件上选择性地应用曝光调节因子,

其中是否要应用曝光调节因子的决定和曝光调节因子的大小至少基于关于在第一可打印部分之前的潜像的第一评价部分的图像相关的标记剂转移需求以及基于相关联的与第一评价部分对应的显影元件的第一显影部分的显影状态,

其中,标记剂转移需求指示要经由潜像的第一评价部分的显影而转移的标记剂的量,标记剂的量是基于潜像的可打印部分的像素密度参数,

并且其中,显影元件的显影状态是基于关于已充电的标记剂的量的显影元件上的位置、以及关于自显影元件上的该位置处的上次显影使用以来的龄期。

11.根据权利要求10所述的电子照相成像器控制部分,其中显影元件是具有用以在逐像素的基础上存储关于显影元件的显影状态的映射的存储器的显影元件,其中映射的尺寸与显影元件的一个循环的表面积对应,并且其中显影状态包括无显影区域的位置和龄期。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于惠普发展公司,有限责任合伙企业,未经惠普发展公司,有限责任合伙企业许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201580079506.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top