[发明专利]成型模具、成型模具的制造方法和复制品的制造方法

说明书

提供一种成型模具的制造方法，该制造方法能够将广泛区域的间距的微细凹凸结构的形状调整为可令人充分满意的程度。一种成型模具的制造方法，其中，在反应性离子蚀刻装置内配置与六氟化硫反应的半导体基材或金属基材，导入六氟化硫与氧的混合气体，在等离子体干法蚀刻工艺中，使氧化物散布到该基材的表面，将该氧化物作为防蚀刻掩模，利用六氟化硫在该基材的表面进行蚀刻，由此在该基材的表面形成微细凹凸结构，之后，对该微细凹凸结构照射离子束以调整该微细凹凸结构的凸部的形状。

技术领域

本发明涉及在表面具备微细凹凸结构的成型模具、成型模具的制造方法和使用成型模具的复制品的制造方法。

背景技术

在光学元件中使用了防反射结构，该防反射结构由以小于光波长的间距(周期)进行排列的微细凹凸结构构成。作为这种微细凹凸结构用的成型模具的制造方法，已知有使用干涉曝光装置或电子束描绘装置将抗蚀剂图案化并进行蚀刻或电铸的方法。但是，利用这些方法难以在大面积的平面或曲面形成微细凹凸结构。

因此，本申请的发明人开发出了一种制造方法，该制造方法不需要进行图案化，可通过反应性离子蚀刻工艺制造具备微细凹凸结构的成型模具(专利文献1)。根据该方法，能够不进行图案化而在大面积的平面或曲面形成微细凹凸结构。

但是，在形成与可见光的最小波长以下的波长对应的、例如0.26μm以下的间距的微细凹凸结构时，仅通过反应性离子蚀刻工艺难以将微细凹凸结构的形状调整为可令人充分满意的程度。

因此，需要能够将包括可见光的波长以下的区域在内的广泛区域的间距的微细凹凸结构的形状调整为可令人充分满意的程度的成型模具的制造方法；以及通过该制造方法所制造的具备形状被调整为可令人充分满意的程度的微细凹凸结构的成型模具。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：WO2014/076983A1

发明内容

发明所要解决的课题

因此，本发明的技术课题在于提供一种能够将包括可见光的波长以下的区域在内的广泛区域的间距的微细凹凸结构的形状调整为可令人充分满意的程度的成型模具的制造方法；以及通过该制造方法所制造的具备形状被调整为可令人充分满意的程度的微细凹凸结构的成型模具。

用于解决课题的手段

本发明的第1方案的成型模具的制造方法包括：在反应性离子蚀刻装置内配置与六氟化硫反应的半导体基材或金属基材，导入六氟化硫与氧的混合气体，在等离子体干法蚀刻工艺中，使氧化物散布在该基材的表面，将该氧化物作为防蚀刻掩模，利用六氟化硫在该基材的表面进行蚀刻，由此在该基材的表面形成微细凹凸结构，之后，对该微细凹凸结构照射离子束以调整该微细凹凸结构的凸部的形状。

本方案的成型模具的制造方法除了在反应性离子蚀刻装置中形成微细凹凸结构以外，还包括对该微细凹凸结构照射离子束以调整该微细凹凸结构的凸部的形状，因此能够使该微细凹凸结构的凸部的形状为所期望的形状。其结果，作为一例，能够提高由微细凹凸结构所产生的防反射功能。

本发明的第1方案的第1实施方式的成型模具的制造方法进一步包括通过电铸使该微细结构再生。

根据本实施方式，能够应用于更广泛的领域。

本发明的第1方案的第2实施方式的成型模具的制造方法中，在照射离子束时，离子束相对于该基材的表面的角度为0度至20度的范围。

根据本实施方式，容易将该微细凹凸结构的凸部的形状形成为例如对于提高防反射功能有利的锥状。

本发明的第1方案的第3实施方式的成型模具的制造方法中，该基材形成为基板或膜。