[发明专利]荧光X射线分析装置及其中使用的光谱显示方法有效
申请号: | 201580082847.1 | 申请日: | 2015-07-03 |
公开(公告)号: | CN108027331B | 公开(公告)日: | 2023-09-15 |
发明(设计)人: | 古川博朗 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | G01N23/223 | 分类号: | G01N23/223 |
代理公司: | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人: | 肖华 |
地址: | 日本国京都府京*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 荧光 射线 分析 装置 其中 使用 光谱 显示 方法 | ||
1.一种荧光X射线分析装置,具备:
X射线管,其将X射线射出到试样;以及
检测器,其检测来自所述试样的X射线,
所述荧光X射线分析装置根据由所述检测器检测到的X射线,制作并显示光谱,该光谱表示X射线能量与元素的含量的关系,
所述荧光X射线分析装置的特征在于,具备:
识别信息制作部,其制作识别信息,所述识别信息包括对基于衍射X射线的波峰位置进行确定的信息,该衍射X射线根据所述试样的晶体结构而产生,所述识别信息还包括对基于荧光X射线的波峰位置进行确定的信息,该荧光X射线根据所述试样中包含的元素而产生;以及
显示控制部,其根据所述识别信息,在所述光谱中的各波峰处显示衍射X射线信息、或者荧光X射线信息、或者衍射X射线信息以及荧光X射线信息这两者,
所述识别信息制作部根据通过输入装置输入的试样的晶体结构的种类,使用算式确定基于所述衍射X射线的波峰位置E,
在上述算式中,h、k、l表示所述试样的晶面的取向,a表示所述试样的晶格常数,θ表示X射线的入射角。
2.根据权利要求1所述的荧光X射线分析装置,其特征在于,
所述识别信息制作部根据多个晶体结构的种类,分别制作识别信息,
所述显示控制部根据从多个识别信息中选择出的至少1个识别信息,在所述光谱中的波峰处显示衍射X射线信息。
3.一种光谱显示方法,在荧光X射线分析装置中使用,所述荧光X射线分析装置具备:
X射线管,其将X射线射出到试样;以及
检测器,其检测来自所述试样的X射线,
所述荧光X射线分析装置根据由所述检测器检测到的X射线,制作并显示光谱,该光谱表示X射线能量与元素的含量的关系,
所述光谱显示方法的特征在于,包括:
识别信息制作步骤,其制作识别信息,所述识别信息包括对基于衍射X射线的波峰位置进行确定的信息,该衍射X射线根据所述试样的晶体结构而产生,所述识别信息还包括对基于荧光X射线的波峰位置进行确定的信息,该荧光X射线根据所述试样中包含的元素而产生;以及
显示步骤,其根据所述识别信息,在所述光谱中的各波峰处显示衍射X射线信息、或者荧光X射线信息、或者衍射X射线信息以及荧光X射线信息这两者,
所述识别信息制作步骤中,根据通过输入装置输入的试样的晶体结构的种类,使用算式确定基于所述衍射X射线的波峰位置E,
在上述算式中,h、k、l表示所述试样的晶面的取向,a表示所述试样的晶格常数,θ表示X射线的入射角。
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