[发明专利]激光装置管理系统有效
申请号: | 201580082992.X | 申请日: | 2015-10-19 |
公开(公告)号: | CN108028506B | 公开(公告)日: | 2020-06-26 |
发明(设计)人: | 峰岸裕司;五十岚豊;太田毅 | 申请(专利权)人: | 极光先进雷射株式会社 |
主分类号: | H01S3/00 | 分类号: | H01S3/00;G03F7/20;G06F21/62 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 黄纶伟;金玲 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 激光 装置 管理 系统 | ||
1.一种激光装置管理系统,具备:
服务器,以存储第一信息、第二信息和第三信息的方式构成,所述第一信息以通过第一访问权限可以进行访问的方式受到访问限制,所述第二信息以通过第二访问权限可以进行访问的方式受到访问限制,所述第三信息以通过所述第一访问权限和所述第二访问权限的双方可以进行访问的方式受到访问限制;以及
激光装置,包括激光输出部和控制部,所述激光输出部向进行晶片曝光的曝光装置输出脉冲激光束,所述控制部从所述曝光装置接收发光触发信号,根据所述发光触发信号控制所述激光输出部,并进行将所述第一信息、所述第二信息和所述第三信息保存在所述服务器中的控制,
所述第二信息包括互相建立对应的所述曝光装置的晶片曝光关联信息与所述激光装置的激光控制关联信息,所述晶片曝光关联信息是从所述曝光装置接收到的信息,并包括与被进行所述晶片曝光的晶片相关的晶片识别信息以及与所述晶片曝光所包括的扫描曝光相关的扫描识别信息。
2.根据权利要求1所述的激光装置管理系统,其中,所述第一信息包括关于所述激光装置的控制的控制参数的数据。
3.根据权利要求2所述的激光装置管理系统,其中,
所述激光输出部包括被供给激光气体的激光腔室,
所述控制参数包括:关于所述脉冲激光束的脉冲能量的控制的能量控制参数,关于所述脉冲激光束的波长的控制的频谱控制参数,以及关于所述激光气体的控制的气体控制参数中的至少1个。
4.根据权利要求1所述的激光装置管理系统,其中,所述第三信息包括关于所述激光装置的记录数据。
5.根据权利要求4所述的激光装置管理系统,其中,所述记录数据包括互相建立对应的所述脉冲激光束的发射号码与所述激光控制关联信息。
6.根据权利要求4所述的激光装置管理系统,其中,所述记录数据包括所述脉冲激光束的总发射数的数据。
7.根据权利要求1所述的激光装置管理系统,其中,
所述激光输出部包括被供给激光气体的激光腔室,
所述激光控制关联信息包括:含有所述脉冲激光束的射束的轮廓和指向的数据的射束计测关联数据,关于所述脉冲激光束的脉冲能量的控制的能量控制关联数据,关于所述脉冲激光束的波长的控制的频谱控制关联数据,以及关于所述激光气体的控制的气体控制关联数据中的至少1个。
8.根据权利要求1所述的激光装置管理系统,其中,所述激光装置包括在经过所定的期间后消去所述第二信息的存储部。
9.根据权利要求8所述的激光装置管理系统,其中,所述所定的期间通过所述第二访问权限进行设定。
10.根据权利要求1所述的激光装置管理系统,其中,所述第二信息的范围通过所述第二访问权限可以进行变更。
11.根据权利要求1所述的激光装置管理系统,其中,所述第一信息的范围通过所述第一访问权限可以进行变更。
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