[发明专利]真空处理装置和质谱分析仪

权利要求书

1.一种真空处理装置，其中，

该真空处理装置包括：

处理室，能够使其内部为真空状态；

负载锁定室，其与所述处理室相连续地设置，能够在大气状态和真空状态之间切换；

连通部，其使所述处理室与所述负载锁定室连通；

载置台，其供作为处理对象的对象物载置，能够经由所述连通部在所述处理室与所述负载锁定室之间移动；

密封部，其固定于所述载置台，比所述连通部的所述处理室侧的开口大；

板状构件，其被水平设置于所述处理室的内壁的位于所述连通部的所述处理室侧的开口的上部的位置的转动轴轴支承，并且被设为能够在与所述内壁抵接的关闭状态和与所述内壁分开的打开状态之间切换；以及

贯通口，其形成于所述板状构件，用于供所述载置台通过，

所述贯通口的所述内壁侧的开口端形成于在所述板状构件处于关闭状态时与所述连通部的所述处理室侧的开口相对应的位置，并且所述贯通口形成为随着远离所述内壁而向斜下方倾斜，

在所述载置台的固定有所述密封部的一侧的端部形成有倾斜部分，该倾斜部分随着向所述密封部靠近而以与所述贯通口相同的角度向斜下方倾斜，

所述密封部比所述贯通口的与所述内壁相反的一侧的开口端大，

在所述载置台在所述负载锁定室侧的状态下，所述载置台的所述倾斜部分成为配置在所述贯通口的内部的状态，并且所述密封部与所述板状构件抵接，所述板状构件为关闭状态。

2.根据权利要求1所述的真空处理装置，其中，

该真空处理装置还包括：

施力构件，其用于对所述板状构件向远离所述处理室的内壁的方向施力；以及

限制构件，其用于限制所述板状构件与所述处理室的内壁所成的角度，以避免其大于预定的角度，

在所述板状构件与所述处理室的内壁所成的角度为所述预定的角度时，所述贯通口的与所述内壁相反的一侧的开口端位于与所述载置台相同的高度。

3.根据权利要求1或2所述的真空处理装置，其中，

该真空处理装置还包括用于使所述载置台移动的移动机构，

所述移动机构包括：

基座构件，其与所述密封部连结；

第1导轨，其用于在所述处理室的内部引导所述基座构件；

连结棒，其一端与所述基座构件连结，并且贯穿被形成于所述处理室的侧壁的孔，另一端配置在所述处理室的外部；

可动板，其连结于所述连结棒的所述另一端；

第2导轨，其用于引导所述可动板；以及

波纹管，其配置在所述可动板与所述侧壁之间，以保持所述处理室的气密性的状态追随所述可动板的位移，

在从所述负载锁定室侧向所述处理室侧进行观察时，所述可动板比所述连通部的处理室侧的开口大。

4.一种质谱分析仪，其中，

该质谱分析仪包括：

处理室，能够使其内部为真空状态；

负载锁定室，其与所述处理室相连续地设置，能够在大气状态和真空状态之间切换；

连通部，其使所述处理室与所述负载锁定室连通；

载置台，其供作为处理对象的对象物载置，能够经由所述连通部在所述处理室与所述负载锁定室之间移动；

密封部，其固定于所述载置台，比所述连通部的所述处理室侧的开口大；

板状构件，其被水平设置于所述处理室的内壁的位于所述连通部的所述处理室侧的开口的上部的位置的转动轴轴支承，并且被设为能够在与所述内壁抵接的关闭状态和与所述内壁分开的打开状态之间切换；以及

贯通口，其形成于所述板状构件，用于供所述载置台通过，

所述贯通口的所述内壁侧的开口端形成于在所述板状构件处于关闭状态时与所述连通部的所述处理室侧的开口相对应的位置，并且所述贯通口形成为随着远离所述内壁而向斜下方倾斜，

在所述载置台的固定有所述密封部的一侧的端部形成有倾斜部分，该倾斜部分随着向所述密封部靠近而以与所述贯通口相同的角度向斜下方倾斜，

所述密封部比所述贯通口的与所述内壁相反的一侧的开口端大，

在所述载置台在所述负载锁定室侧的状态下，所述载置台的所述倾斜部分成为配置在所述贯通口的内部的状态，并且所述密封部与所述板状构件抵接，所述板状构件为关闭状态。