[发明专利]具有主动可调整的度量支撑单元的光学成像布置

权利要求书

1.一种光学成像布置，包括：

-光学投射系统，

-支撑结构系统，以及

-控制装置，

其中，

-所述光学投射系统包括光学元件的组，所述光学元件的组由所述支撑结构系统支撑且配置为在曝光过程中使用曝光光沿着曝光光路将掩模的图案的像转印到基板上；

-所述光学元件的组包括第一光学元件和第二光学元件；

-所述控制装置包括传感器装置和主动装置；

-所述传感器装置 位于传感器位置；

-所述传感器装置功能上与所述第一光学元件关联并且配置为捕捉机械扰动信息，所述机械扰动信息表示在至少一个自由度至全部六个自由度上作用在所述第一光学元件上的机械扰动，其中，所述机械扰动沿着扰动路径朝向所述第一光学元件最快地传播；

-所述控制装置配置为作为所述机械扰动信息的函数来控制所述主动装置，使得所述主动装置作用在所述光学元件中的至少一个上，以至少部分地校正在曝光过程期间由作用在所述第一光学元件上的所述机械扰动造成的所述光学成像布置的光学成像误差；

其特征在于，

-所述传感器位置沿着所述扰动路径位于与所述第一光学元件相距传感器位置距离处；

-所述主动装置至少作用在所述第二光学元件上，以至少部分地校正所述光学成像误差，其中，所述光学成像误差由所述第一光学元件的变形导致，所述变形由作用于所述第一光学元件上的所述机械扰动导致；

-所述控制装置包括储存控制信息的存储器；

-所述控制信息表示至少一个控制信号，所述至少一个控制信号作为所述机械扰动信息的函数而要被提供到所述主动装置，以至少部分地校正由所述机械扰动导致的所述第一光学元件的所述变形导致的所述光学成像误差；并且

-为了至少部分地校正所述光学成像误差，所述控制装置的控制单元配置为使用所述机械扰动信息和所述控制信息来产生至少一个校正控制信号，并且将所述校正控制信号转送到所述主动装置。

2.根据权利要求1所述的光学成像布置，其中，

-所述主动装置包括所述支撑结构系统的主动支撑单元，所述主动支撑单元支撑所述第二光学元件且配置为在至少一个自由度上调整所述第二光学元件的位置和/或取向和/或变形；

和/或

-所述主动装置包括主动变形装置，所述主动变形装置分配到所述第二光学元件且配置为在至少一个自由度上调整所述第二光学元件的变形。

3.根据权利要求1所述的光学成像布置，其中，

-所述传感器装置包括至少一个传感器单元，

并且

-所述至少一个传感器单元机械连接到光学元件单元，所述光学元件单元包括所述第一光学元件；

和/或

-所述至少一个传感器单元机械连接到所述第一光学元件；

和/或

-所述至少一个传感器单元在传感器位置处机械连接到光学成像布置部件，所述传感器位置位于所述第一光学元件附近；

和/或

-所述至少一个传感器单元配置为在至少一个自由度至全部六个自由度上捕捉加速度信息作为所述机械扰动信息。

4.根据权利要求3所述的光学成像布置，其中，

-所述传感器装置包括至少一个传感器单元，

并且

-所述至少一个传感器单元机械连接到光学元件单元，所述光学元件单元包括所述第一光学元件；

和/或

-所述至少一个传感器单元机械连接到所述第一光学元件；

和/或

-所述至少一个传感器单元在传感器位置处机械连接到所述支撑结构系统的支撑结构部件，所述传感器位置位于所述第一光学元件附近；

和/或

-所述至少一个传感器单元配置为在至少一个自由度至全部六个自由度上捕捉加速度信息作为所述机械扰动信息。

5.根据权利要求3所述的光学成像布置，其中，

-所述机械扰动沿着所述扰动路径具有从所述传感器位置到所述第一光学元件的扰动运行时间；

-所述控制装置具有从捕捉所述机械扰动信息到作用在至少所述第二光学元件上以至少部分地校正所述光学成像误差的控制反应时间；并且

-选择所述传感器位置距离，使得所述控制反应时间小于或等于所述扰动运行时间。