[发明专利]用于分析材料的装置和方法

权利要求书

1.用于分析材料(101)的分析装置(10)，具有：

-激发传输装置(100)，用于产生具有至少一个激发波长的至少一个激发光束，并将所述至少一个激发光束辐射至材料容积(103)中，所述材料容积(103)定位在所述材料(101)的表面的第一区域(102)下面；

-光学介质(108)，在操作中，与所述材料的表面的第一区域(102)直接接触；

-检测装置(106、139)，用于检测响应信号(SR)，所述响应信号归因于组织内的所述激发光束的波长依赖性吸收的效应，其中，检测所述响应信号包括以下操作之一：

在测量束在所述光学介质(108)的界面(GF)处发生至少一次反射之后检测所述测量束，其中，所述光学介质(108)的所述界面(GF)与所述材料(101)的表面的所述第一区域(102)相接触，

使用连接至所述光学介质或集成在所述光学介质中的压电元件检测所述光学介质的变形和/或密度变化，或者

使用温度传感器检测温度；

-用于对所述激发光束进行强度调制的装置(104)；以及

-用于基于所检测的响应信号(SR)分析所述材料的评估装置(107、147)，

其中，所述分析装置(10)配置为用于使用所述激发光束的不同调制频率连续地确定响应信号，以及用于使不同调制频率下获得的结果彼此结合，并从所述结合中获得所述表面下的深度范围的具体信息。

2.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，

所述装置包括用于发射所述测量束(112)的装置(105)，所述用于发射所述测量束(112)的装置(105)布置成使得所发射的测量束(112)穿入所述光学介质(108)，以及

-所述检测装置(106)是用于接收所反射的测量束(112)和用于直接或间接地检测所反射的测量束(112)的偏转的装置，其中，所反射的测量束(112)形成所述响应信号(SR)。

3.根据权利要求1或2所述的分析装置，其特征在于，

-所述检测装置(106)适用于根据所述激发光束的所述波长和/或所述激发光的强度调制来检测时间依赖的响应信号(SR)。

4.根据权利要求1或2所述的分析装置，其特征在于，

所述激发传输装置(100)包括两个或更多个传输元件(100a)，所述传输元件(100a)为一维、二维或多维传输元件阵列形式的传输元件。

5.根据权利要求4所述的分析装置，其特征在于，

所述两个或更多个传输元件(100a)各自均生成其特有的电磁激发束，并将所述电磁激发束辐射至所述第一区域(102)之下的容积中。

6.根据权利要求4所述的分析装置，其特征在于，

所述两个或更多个传输元件(100a)的电磁激发束的波长是不同的。

7.根据权利要求1或2所述的分析装置，其特征在于，

所述激发传输装置包括两个或更多个激光器，所述两个或更多个激光器为一维、二维或多维激光器阵列的形式。

8.根据权利要求1或2所述的分析装置，其特征在于，

所述激发传输装置直接地或间接地通过调节装置(109)机械固定地连接至所述光学介质(108)。

9.根据权利要求1或2所述的分析装置，其特征在于，

用于强度调制的装置(104)包括电调制装置或由电调制装置形成，所述电调制装置电连接至所述激发传输装置(100)，并电控制所述激发传输装置(100)。

10.根据权利要求9所述的分析装置，其特征在于，

所述用于强度调制的装置(104)包括至少一个受控制的镜子(133、134)，所述至少一个受控制的镜子(133、134)布置在光束路径中。