[发明专利]膜形成设备有效
申请号: | 201580085470.5 | 申请日: | 2015-12-21 |
公开(公告)号: | CN108474112B | 公开(公告)日: | 2020-06-19 |
发明(设计)人: | 安德里亚斯·索尔;安拉贝拉·霍夫曼 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C16/54 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 形成 设备 | ||
描述一种用于处理基板上的薄膜的设备。所述设备包括:真空腔室,所述真空腔室包括外壳、后壁和可移除闭合板;处理滚筒,所述处理滚筒在真空腔室内布置在后壁与可移除闭合板之间,所述处理滚筒至少部分地被处理区域包围;第一工艺分隔壁部分,所述第一工艺分隔壁部分附接到可移除闭合板;以及第二工艺分隔壁部分,所述第二工艺分隔壁部分附接到外壳或后壁;其中在可移除闭合板的闭合位置中,第一工艺分隔壁部分和第二工艺分隔壁部分共同提供工艺分隔壁,所述工艺分隔壁将处理区域分成相邻的处理区段。
技术领域
本公开内容的实施方式涉及一种薄膜处理设备,特别是涉及沉积系统,更特别是涉及卷对卷(roll-to-roll,R2R)沉积系统和用于维护薄膜处理设备的方法。本公开内容的实施方式特别涉及卷对卷沉积系统中的气体分隔(gas separation)和向卷对卷(roll-to-roll)沉积系统提供维护通路的方法,特别是涉及用于在柔性基板上涂覆薄膜的设备和用于在沉积设备的相邻的处理区段之间提供气密工艺分隔壁的方法。
背景技术
对柔性基板(例如,塑料膜或箔)的处理在封装工业(packaging industry)、半导体工业、太阳光防护窗膜工业(solar protecting window film industries)和其他工业中有大量需求。处理可包括用材料涂覆柔性基板,材料例如是金属,特别是银、铝、钛、铌或锌和上述材料的介电化合物,诸如铝掺杂的氧化锌。执行此任务的系统一般包括处理滚筒(processing drum),处理滚筒耦接到处理系统以传输基板,并且基板的至少一部分在处理滚筒上进行处理,处理滚筒例如是圆柱形辊。卷对卷沉积系统可提供高产量系统。
典型地,可利用蒸发工艺(例如,热蒸发工艺)来沉积金属薄层,金属薄层可金属化到柔性基板上进行。然而,卷对卷沉积系统在显示器工业和光伏(photovoltaic,PV)工业中也面临需求大量增加的情况。例如,触控面板元件、柔性显示器、滤光片和柔性PV模块造成对在卷对卷涂布机(coater)中沉积合适的层或层堆叠结构(layer stacks)的需求增加,特别是具有低制造成本的在卷对卷涂布机(coater)中沉积合适的层或层堆叠结构。然而,此类装置典型地具有若干层,这些层通常例如溅射工艺的PVD)工艺或以CVD工艺(例如,PECVD工艺)制造。用于此类复杂应用的卷对卷沉积系统包括在相邻的隔室中的若干处理区段。
多年以来,卷对卷沉积系统中的层已经发展成多个层,其中每个层提供不同的功能。将多个层沉积在柔性基板上可在卷对卷沉积系统的多个处理区段中执行。卷对卷沉积系统的高正常运行时间和减少的停机时间降低生产成本。在沉积的层或层堆叠结构有高质量水平的情况下,总拥有成本可进一步降低。因此,提供确保高沉积质量和最小化的生产停机时间(例如,用于维护目的)的用于处理柔性基板的有效的方法和设备是经济上关注的问题。
发明内容
鉴于上述,提供一种用于处理基板上的薄膜的设备,特别是用于处理柔性基板的设备,以及一种用于在真空腔室中的相邻的处理区段之间提供气密工艺分隔壁的方法。另外方面、优点和特征公开内容从从属权利要求、说明书和附图清楚。
根据一个实施方式,提供一种用于处理基板上的薄膜的设备。所述设备包括:真空腔室,所述真空腔室包括外壳、后壁和可移除闭合板;处理滚筒,所述处理滚筒在真空腔室内布置在后壁与可移除闭合板之间,所述处理滚筒至少部分地被处理区域包围;第一工艺分隔壁部分,所述第一工艺分隔壁部分附接到可移除闭合板;以及第二工艺分隔壁部分,所述第二工艺分隔壁部分附接到外壳或后壁;其中在可移除闭合板的闭合位置中,第一工艺分隔壁部分和第二工艺分隔壁部分共同提供工艺分隔壁,所述工艺分隔壁将处理区域分成相邻的处理区段。
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