[其他]流体处理系统和包括所述流体处理系统的仪器

权利要求书

1.一种流体处理系统，其包括能够保持实验室器皿部件的实验室器皿位点，其特征在于：

支撑件，其被配置成在所述支撑件上的实验室器皿位点处接收至少一个实验室器皿部件，所述实验室器皿部件被配置成接收并保持流体；

投影仪，其被配置成将所述至少一个实验室器皿部件的虚拟图像在所述支撑件上的实验室器皿位点处提供到所述支撑件上，所述至少一个实验室器皿部件在所述实验室器皿位点处放置在所述支撑件上；

采样探头，其被配置成在放置的实验室器皿部件中被接收的流体上进行抽吸、分配、通气、脱气或执行其他流体处理操作；以及

处理器，其电耦合到所述采样探头和所述图像投影仪，并被配置成将数字图像提供给所述投影仪，其中所述投影仪接收所述数字图像并将所述数字图像转换成第一虚拟图像，所述第一虚拟图像被投影在所述支撑件上方在所述实验室器皿位点处的位置中。

2.根据权利要求1所述的流体处理系统，其特征在于，所述投影仪定位在所述支撑件上方。

3.根据权利要求1所述的流体处理系统，其特征在于，所述投影仪被配置成将第二实验室器皿部件的第二虚拟图像提供到所述支撑件上。

4.根据权利要求1所述的流体处理系统，其特征在于，所述投影仪定位在所述支撑件下方。

5.根据权利要求1所述的流体处理系统，其特征在于，所述投影仪被配置成投影小于整个实验室器皿部件的图像。

6.根据权利要求1所述的流体处理系统，其特征在于，所述支撑件被配置成接收包括多个单独孔的微孔板，并且其中所述投影仪被配置成投影小于所述微孔板的整个图像的所述微孔板的虚拟图像。

7.根据权利要求1所述的流体处理系统，其特征在于，所述支撑件被配置成接收包括多个单独孔的微孔板，并且其中所述投影仪被配置成投影是所述微孔板的整个图像的所述微孔板的虚拟图像。

8.根据权利要求1所述的流体处理系统，其特征在于，所述投影仪被配置成使用可见光投影所述虚拟图像。

9.根据权利要求1所述的流体处理系统，其特征在于，所述投影仪被配置成使用不可见光投影所述虚拟图像。

10.根据权利要求1所述的流体处理系统，其特征在于，所述投影仪包括DLP芯片和光源。

11.根据权利要求1所述的流体处理系统，其特征在于，所述投影仪包括液晶面板和光源。

12.根据权利要求1所述的流体处理系统，其特征在于，所述流体处理系统还包括检测器，且其中所述流体处理系统包括用作所述投影仪的光源并且用作所述流体处理系统的检测器的光源的共用光源。

13.根据权利要求12所述的流体处理系统，其特征在于，所述光源包括灯、发光二极管、激光器或发光装置。

14.根据权利要求1所述的流体处理系统，其特征在于，所述投影仪被进一步配置成投影用户指令。

15.根据权利要求1所述的流体处理系统，其特征在于，所述流体处理系统进一步包括至少一个相机。

16.根据权利要求15所述的流体处理系统，其特征在于，所述处理器被配置成从由所述相机接收的一个或多个像素确定所述实验室器皿部件是否被正确地放置在所述支撑件上。

17.根据权利要求1所述的流体处理系统，其特征在于，由所述投影仪提供的所述实验室器皿部件的所述虚拟图像比所述实验室器皿部件小至少5％。