[发明专利]一种装置及该装置的使用方法

说明书

本发明公开了一种装置及该装置的使用方法，用以降低对基板线路维修时失败的几率，提高基板的品质。所述装置包括粉末储藏罐和气体腔体，所述粉末储藏罐设置出气管道，所述出气管道与所述气体腔体连接，其中，还包括监控装置、第一开关和第二开关，监控装置设置在粉末储藏罐和气体腔体之间，与出气管道连通，用于在监控装置与气体腔体之间的气路处于关闭状态时，监控出气管道中单位体积内粉末的含量；第一开关设置在监控装置与出气管道之间，第二开关设置在监控装置与气体腔体之间。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种装置及该装置的使用方法。

背景技术

化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，CVD)维修(Repair)设备是薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD)面板领域在阵列段主要的维修设备，对阵列基板的线不良和点不良进行查看、判级和维修。其原理是通过激光的热效应和光效应，沉积钨粉对导电金属线进行连接，维修断路(Open)类不良。CVD维修设备也可以对基板上导电薄膜的金属残留物进行切割，切割后可以沉积钨粉对导电金属线进行跨接，维修残留(Remain)类不良，提高产品的良率。

如图1所示，现有技术的CVD维修设备包括加热的钨粉储藏罐、与钨粉储藏罐连接的氩气(Ar)的进气管道11，以及加热管道12、与加热管道12连接的气体腔体14、物镜15、镜筒透镜16、分离器17、波长选择器18和弯曲棱镜19，该CVD维修设备可以对阵列基板13的线不良和点不良进行查看、判级和维修。

现有技术采用该CVD维修设备对阵列基板进行维修时，存在以下问题：

第一、CVD维修设备中的钨粉储藏罐的进气口和出气口为圆柱形；进气口为圆柱形的设计吹气方向单一，局部气流量较大，会导致出气口钨粉堆积，另外也会导致部分区域无法吹到，形成饱和钨蒸气，引起的钨粉结晶和堆积；以上均会引起气体腔体内钨粉含量降低，钨粉沉积薄膜变薄。在背光不透光情况下，无法知悉维修状况，即若钨粉沉积薄膜后，背光的光会穿透该薄膜，则说明维修失败，若背光的光不穿透该薄膜，还需要保证该薄膜的厚度在不透光的情况下不能太薄，而在这种情况下，由于钨粉沉积薄膜变薄，则会导致维修失败逐渐增加；

第二、钨粉在使用过程中，目前只是记录设备的运行时间作为钨粉使用时间，而在设备运行过程中，多数时间钨粉并没在使用，而且每台设备钨粉消耗也不同，因此记录不准确，按照运行时间更换钨粉，大大降低了钨粉使用率，造成钨粉的浪费；

第三、在设备保养或异常停电过程中，钨粉管道或其它位置阻塞以及钨粉使用末期，反应气体中钨粉含量会降低，无法监控；另外，目前钨粉储藏罐的设计，即使发现沉积的薄膜明显变薄，且透光，采取的手段仅仅是更换钨粉，方法单一，不能充分确认钨粉状况，导致钨粉的浪费，影响设备嫁动。

综上所述，现有技术采用CVD维修设备对阵列基板进行维修时，钨粉在使用异常时，如：使用耗尽、管道堵塞、钨粉结晶等，钨粉无法被及时监控到，因此导致钨粉沉积的薄膜质量下降，维修失败率上升；另外，在钨粉明显发生异常下，无法进行有效的调整，只能从更换钨粉方面入手，方法单一且影响设备嫁动，影响产能。

发明内容

本发明实施例提供了一种装置及该装置的使用方法，用以降低对基板线路维修时失败的几率，提高基板的品质。

本发明实施例提供的一种装置，包括粉末储藏罐和气体腔体，所述粉末储藏罐设置有出气管道，所述出气管道与所述气体腔体连接，其中，还包括监控装置、第一开关和第二开关，

所述第一开关设置在所述监控装置与所述出气管道之间，所述第二开关设置在所述监控装置与所述气体腔体之间；

所述监控装置设置在所述粉末储藏罐和所述气体腔体之间，与所述出气管道连通，用于在所述第二开关关闭，所述第一开关打开时，监控所述出气管道中单位体积内粉末的含量。