[发明专利]显示面板及其制作方法和显示装置有效

专利信息
申请号: 201610005234.4 申请日: 2016-01-05
公开(公告)号: CN105489124B 公开(公告)日: 2019-06-07
发明(设计)人: 权九烈 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G09F9/30 分类号: G09F9/30;G02F1/1333
代理公司: 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 代理人: 李莎
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 及其 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示面板,包括对应设置的上基板和下基板,所述上基板包括基底和彩膜层,所述基底由内到外依次对应有效显示区域、虚拟区域和封框胶区域,所述彩膜层设置在所述基底的有效显示区域靠近所述下基板的一侧,其特征在于,所述彩膜层包括第一黑矩阵和色阻单元;在所述基底的虚拟区域靠近下基板的一侧设置有第二黑矩阵;

所述上基板还包括:

增厚层,设置在所述基底的虚拟区域靠近所述下基板的一侧,且所述增厚层设置在所述第二黑矩阵之上,厚度等于所述色阻单元与所述第一黑矩阵的厚度之差;

所述显示面板还包括:

有效隔垫物,设置在所述彩膜层靠近所述下基板的一侧;

虚拟隔垫物,设置在所述增厚层靠近所述下基板的一侧,与所述有效隔垫物的高度相等;

所述虚拟隔垫物与所述有效隔垫物在相同的工艺中形成;所述有效隔垫物包括:有效主隔垫物和有效副隔垫物;所述虚拟隔垫物包括:虚拟主隔垫物和虚拟副隔垫物,

其中,所述虚拟主隔垫物的高度与所述有效主隔垫物的高度相等,所述虚拟副隔垫物的高度与所述有效副隔垫物的高度相等;

所述增厚层包括:

第一增厚区域,宽度与所述虚拟主隔垫物底部的直径相等,所述虚拟主隔垫物设置在所述第一增厚区域上;

第二增厚区域,宽度与所述虚拟副隔垫物底部的直径相等,所述虚拟副隔垫物设置在所述第二增厚区域上。

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,在所述彩膜层靠近所述下基板的一侧,以及所述增厚层靠近所述下基板的一侧还设置有保护层,

所述有效隔垫物和虚拟隔垫物设置在所述保护层靠近所述下基板的一侧。

3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述色阻单元的厚度大于所述第一黑矩阵的厚度,

所述第一黑矩阵和第二黑矩阵的厚度相等。

4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述增厚层与所述色阻单元的材料相同,所述虚拟隔垫物与所述有效隔垫物的材料相同。

5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述增厚层与所述色阻单元在相同工艺中形成。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的显示面板,其特征在于,还包括:

封框胶,设置在所述封框胶区域,用于粘合所述上基板和下基板。

7.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1至6中任一项所述的显示面板。

8.一种显示面板制作方法,其特征在于,包括:

在基底的有效显示区域靠近下基板的一侧形成彩膜层;所述彩膜层包括第一黑矩阵和色阻单元;在基底的虚拟区域靠近下基板的一侧形成第二黑矩阵;在所述第二黑矩阵上形成增厚层,所述增厚层的厚度等于所述色阻单元与所述第一黑矩阵的厚度之差;

在所述彩膜层靠近下基板的一侧形成有效隔垫物;

在所述增厚层靠近下基板的一侧形成与所述有效隔垫物高度相等的虚拟隔垫物;

所述虚拟隔垫物与所述有效隔垫物在相同的工艺中形成;所述有效隔垫物包括:有效主隔垫物和有效副隔垫物;所述虚拟隔垫物包括:虚拟主隔垫物和虚拟副隔垫物,

其中,所述虚拟主隔垫物的高度与所述有效主隔垫物的高度相等,所述虚拟副隔垫物的高度与所述有效副隔垫物的高度相等;

所述增厚层包括:

第一增厚区域,宽度与所述虚拟主隔垫物底部的直径相等,所述虚拟主隔垫物设置在所述第一增厚区域上;

第二增厚区域,宽度与所述虚拟副隔垫物底部的直径相等,所述虚拟副隔垫物设置在所述第二增厚区域上。

9.根据权利要求8所述的显示面板制作方法,其特征在于,在形成所述彩膜层的同时形成所述增厚层。

10.根据权利要求8所述的显示面板制作方法,其特征在于,在形成所述有效隔垫物的同时形成所述虚拟隔垫物。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610005234.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top