[发明专利]一种高分散性光敏石墨烯及其制备方法

权利要求书

1.一种高分散性光敏石墨烯，其特征在于所述光敏石墨烯通过如下步骤制得：

(1)氧化，采用改进的Hummers法对石墨烯粉进行氧化处理，制得氧化石墨烯；

(2)氨基化，将步骤(1)制得的氧化石墨烯加入反应溶剂中，60℃下滴加3-氨丙基三乙氧基硅烷，搅拌反应6～12h，随后洗涤、干燥，得到氨基化氧化石墨烯；

(3)还原，将步骤(2)制得的氨基化氧化石墨烯分散还原溶剂中，并加入还原剂，80℃条件下搅拌反应12～48h，洗涤、干燥，制得氨基化石墨烯；

(4)半封端，将异佛尔酮二异氰酸酯加入到反应溶剂中，升温50℃，滴加丙烯酸-2-羟乙酯、催化剂、阻聚剂的混合物，控制温度为50℃，搅拌反应，制得半封端异氟尔酮二异氰酸酯；

(5)光敏化，将步骤(3)制得的氨基化石墨烯分散在反应溶剂中，加入步骤(4)制得的半封端异氟尔酮二异氰酸酯，10～40℃下，搅拌反应20～24h，洗涤、干燥，制得所述光敏石墨烯。

2.根据权利要求1所述的高分散性光敏石墨烯，其特征在于所述步骤(2)中氧化石墨烯与3-氨丙基三乙氧基硅烷的质量比为1:5～10；所述反应溶剂为去离子水和乙醇的混合液。

3.根据权利要求1所述的高分散性光敏石墨烯，其特征在于所述步骤(3)中还原溶剂为丙酮或N,N-二甲基甲酰胺；所述还原剂为85％水合肼；所述氨基化氧化石墨烯与还原剂的质量比为1:1～10。

4.根据权利要求1所述的高分散性光敏石墨烯，其特征在于所述步骤(4)中异佛尔酮二异氰酸酯和丙烯酸-2-羟乙酯摩尔比为1:1.1；所述反应溶剂为除水丙酮或除水N,N-二甲基甲酰胺；所述催化剂为二月桂酸二丁基锡；所述阻聚剂为4-甲氧基酚。

5.根据权利要求1所述的高分散性光敏石墨烯，其特征在于所述步骤(5)中反应溶剂为除水丙酮或除水N,N-二甲基甲酰胺。

6.根据权利要求1所述的高分散性光敏石墨烯，其特征在于所述步骤(1)～步骤(5)中，搅拌的转速为200～400rpm；所述洗涤的方式为抽滤或离心洗涤；所述干燥的方式为真空干燥。