[发明专利]一种基板、基板制造方法、触摸屏和显示装置

说明书

本发明公开了一种基板、基板制造方法、触摸屏和显示装置，包括衬底基板，还包括设置于衬底基板上的增透减反膜，所述的增透减反膜包括第一密实均质层、纳米多孔层和第二密实均质层，所述增透减反膜各层的材料均为SiO2。光经过纳米多孔层时，经多次反射而聚焦透射出去，达到减反射增透的目的。第一密实均质层的设置可以增强纳米多孔层的沉积效率与结合力，避免高温干燥处理时纳米多孔层脱落。第二密实均质层可以防止纳米多孔层表面吸附水分和灰尘造成盖板玻璃雾度增大。同时增透减反膜因各层折射率不同，调整各层厚度进行光学匹配，从而达到消影的效果。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种基板、基板制造方法、触摸屏和显示装置。

背景技术

为了提高手机、平板等智能显示产品的画面品质，通常在盖板玻璃表面贴附功能膜或涂布功能涂层，以达到相应目的。当外界环境光足够强时，往往会在显示屏上反射周围物体，从而影响显示画面，造成显示品质下降，为此需要进行减反射处理。此外，对于On-Cell等触摸屏，ITO Pattern在明亮环境下很容易被用户察觉到，降低可视性，故需要在盖板玻璃上镀一层消影层。

玻璃表面在可见光范围内的减反射效果可以通过两种方法来实现：一是利用不同光学材料膜层产生的干涉效果来消除入射光和反射光，从而提高透过率；二是利用粗糙表面的散射作用把大量的入射光转换为漫反射光，它不会给透过率带来明显的变化。前者所用基材通常为PET，但这不利于产品的轻薄化，同时由于PET基材在进行硬化处理的时候需要经过一次高温，在高温处理中，基材的表面分子结构不均匀产生散射情况，从而引起彩虹纹；而后者通常会增大玻璃表面雾度，影响显示画面的清晰度。

发明内容

为解决上述问题，本发明的提供了一种基板、基板制造方法、触摸屏和显示装置，该基板通过在衬底基板上设置一层增透减反膜，所述的增透减反膜包括纳米多孔层。可以有效提高光线透射程度，降低光线反射程度，实现消影，最终提高显示效果。

本发明提供了一种基板，包括衬底基板，还包括设置于衬底基板上的增透减反膜，所述的增透减反膜包括纳米多孔层。

例如，所述的纳米多孔层的材料为SiO2。

例如，所述的增透减反膜还包括设置在纳米多孔层和衬底基板间，并与纳米多孔层表面相接触的第一密实均质层，所述的第一密实均质层的材料为SiO2。由于纳米多孔层和第一密实均质层都是以硅氧键形成的网络结构为基础，且新形成的膜表面断键多，活性高，这有利于增强纳米多孔层的沉积效率和结合力，避免高温干燥处理时纳米多孔层脱落。

例如，所述的增透减反膜还包括设置在纳米多孔层远离衬底基板一侧并与纳米多孔层表面相接触的的第二密实均质层，所述的第二密实均质层的材料为SiO2。可以有效防止纳米多孔层SiO2表面吸附水分和灰尘造成玻璃雾度增大，同时起保护作用。

例如，所述的衬底基板为玻璃基板，所述的纳米多孔层与其上下表面的两层密实均质层一起的综合折射率为n2，空气折射率为n1＝1，玻璃基板折射率为n3，折射率满足如下条件：

其中，玻璃基板折射率为n3的取值范围为1.458～1.534。纳米多孔层SiO2膜材的折射率最佳应在1.21～1.24。纳米多孔层的孔隙率越大，相应折射率越小。

纳米多孔层的折射率为n22，第一密实均质层的折射率为n21，第二密实均质层的折射率为n23，其中n21＝n23＝n，p为纳米多孔层的空隙所占膜材的体积分数：

例如，当纳米多孔层的材料为SiO2，且纳米多孔层的孔隙率达到50％时，纳米多孔层的折射率为1.21。纳米多孔SiO2空隙率达50％左右，甚至更高，光经过多次反射而聚焦透射出去，从而达到减反射增透的目的。