[发明专利]显示基板及其制作方法和显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种显示基板制作方 法、一种显示基板和一种显示装置。

背景技术

现有技术中，为了提高显示基板上薄膜晶体管器件的电学性能， 会制作双栅结构薄膜晶体管，也即形成上下两个栅极结构。但是双 栅结构薄膜晶体管的两个栅极及源极和漏极通常需要用不同的掩膜 来形成，以这种方法制作的双栅结构薄膜晶体管具有较大的寄生电 容，随着显示尺寸和分辨率的不断提升，阵列基板上所有薄膜晶体 管寄生电容之和将变得非常大，这会直接降低显示装置的性能。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是，如何减小双栅结构薄膜晶体管器 件的寄生电容。

为此目的，本发明提出了一种显示基板制作方法，包括：

在透明基底之上的第一区域形成第一栅极；

在所述第一栅极之上形成透明栅绝缘层；

在所述栅绝缘层之上形成透明有源层；

在所述有源层之上的第二区域形成透明源极和漏极，所述第一区 域和第二区域不重叠；

在所述源极和漏极之上形成钝化层；

在所述钝化层之上的第一区域形成第二栅极。

优选地，形成第一栅极包括：

在透明基底之上形成第一栅极金属层；

在所述第一栅极金属层之上形成正性光刻胶；

对第一区域以外的正性光刻胶进行曝光和显影；

蚀刻掉第一区域以外的第一栅极金属层；

剥离第一区域的正性光刻胶。

优选地，形成源极和漏极包括：

在所述有源层之上形成正性光刻胶；

以所述第一栅极为掩膜，从所述透明基底之下对第二区域的正性 光刻胶进行曝光和显影；

在所述显影后的光刻胶图形层之上形成透明导体层；

剥离第一区域的正性光刻胶和透明导体层，第二区域剩余的透明 导体层作为所述透明源极和漏极。

优选地，形成第二栅极包括：

在所述钝化层之上形成负性光刻胶；

以所述第一栅极为掩膜，从所述透明基底之下对第一区域以外的 负性光刻胶进行曝光，显影去除第一区域的负性光刻胶；

在所述显影后的负性光刻胶图形层之上形成第二栅极金属层；

剥离第一区域以外的负性光刻胶和第二栅极金属层，第一区域剩 余的第二栅极金属层作为所述第二栅极。

优选地，形成有源层包括：

在透明栅绝缘层之上形成第一透明绝缘层；

在第一透明绝缘层之上形成多个透明子有源层；

在相邻透明子有源层之间形成透明层间绝缘层；

在最上方的透明子有源层之上形成第二透明绝缘层。

优选地，形成每个子有源层包括：

形成透明半导体层。

优选地，形成每个子有源层包括：

形成第一透明半导体层；

在第一透明半导体层之上形成第二透明半导体层。

优选地，形成每个子有源层包括：

形成第一透明半导体层；

在第一透明半导体层之上形成第三透明绝缘层；

在第三透明绝缘层之上形成第二透明半导体层。

优选地，形成有源层包括：

在相同的真空环境下形成第一透明绝缘层、第二透明绝缘层、所 有透明子有源层和透明层间绝缘层。

本发明还提出了一种显示基板，包括：

透明基底；

第一栅极，设置在所述透明基底之上的第一区域；

栅绝缘层，设置在所述第一栅极之上；

透明有源层，设置在所述栅绝缘层之上；

透明源极和漏极，设置在所述有源层之上的第二区域，所述第一 区域和第二区域不重叠；

钝化层，设置在所述源极和漏极之上；

第二栅极，设置在所述钝化层之上的第一区域。

优选地，所述有源层包括：多个子有源层以及设置在相邻子有源 层之间的层间绝缘层，所述子有源层包括：

第一透明绝缘层，设置在透明栅绝缘层之上；

多个子有源层，设置在所述第一透明绝缘层之上；

透明层间绝缘层，设置在相邻透明子有源层之间；

第二透明绝缘层，设置在最上方的透明子有源层之上。