[发明专利]一种表面图案化沉积金属的铁基材料及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 201610007326.6 | 申请日： | 2016-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN106947946B | 公开（公告）日： | 2019-01-25 |
| 发明（设计）人： | 郑玉峰;黄涛 | 申请（专利权）人： | 北京大学 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/04;A61F2/82 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 关畅;王春霞 |
| 地址： | 100871 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 表面 图案 沉积 金属 基材 料及 制备 方法 应用 | ||
1.一种表面图案化沉积贵金属的铁基材料，其特征在于：它包括铁基基体材料和按照预设计的图案沉积在所述铁基基体材料表面上的金属；所述金属在温度为35～40℃的模拟体液中的腐蚀电位正于铁的腐蚀电位；
所述金属为微纳米结构；所述微纳米结构横向尺寸为0～20μm，但不为0；厚度为0～1μm，但不为0；所述微纳米结构为点状；
所述铁基基体材料为纯铁、铁合金或铁基复合材料；所述金属为Au、Ag、Pd或Pt；
所述铁基材料是由包括如下步骤的方法制备得到的：
(1)将所述铁基基体材料抛光，并在其表面旋涂光刻胶；
(2)按照预设计的图案采用电子束刻制光刻掩膜板，掩盖在步骤(1)得到的光刻胶表面，在紫外光下进行曝光处理；
(3)采用电子束沉积方式穿过光刻胶向铁基基体材料表面沉积所述金属，使用有机溶剂溶解去除光刻胶，即得所述表面图案化沉积金属的铁基材料。
2.根据权利要求1所述的铁基材料，其特征在于：所述金属的电极电位与所述铁基基体材料的腐蚀电位电位差为0～5V，但不为0。
3.根据权利要求1或2所述的铁基材料，其特征在于：所述金属的表面积与所述铁基基体材料的表面积的比值为0～0.7，但不为0。
4.根据权利要求1或2所述的铁基材料，其特征在于：所述微纳米结构为圆形或多边形。
5.根据权利要求1或2所述的铁基材料，其特征在于：所述图案为点阵。
6.根据权利要求1或2所述的铁基材料，其特征在于：所述模拟体液为Hank’s模拟体液。
7.权利要求1-6中任一项所述的铁基材料的制备方法，包括如下步骤：
(1)将所述铁基基体材料抛光，并在其表面旋涂光刻胶；
(2)按照预设计的图案采用电子束刻制光刻掩膜板，掩盖在步骤(1)得到的光刻胶表面，在紫外光下进行曝光处理；
(3)采用电子束沉积方式穿过光刻胶向铁基基体材料表面沉积所述金属，使用有机溶剂溶解去除光刻胶，即得所述表面图案化沉积金属的铁基材料。
8.权利要求1-6中任一项所述的表面图案化沉积贵金属的铁基材料在制备医用植入体中的应用。
9.根据权利要求8所述的应用，其特征在于：所述医用植入体为血管支架。
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