[发明专利]掩膜板及其制作方法有效

申请号：	201610007354.8	申请日：	2016-01-06
公开（公告）号：	CN105425533B	公开（公告）日：	2019-10-22
发明（设计）人：	吴春晖;蒋盛超;安予生;喻琨	申请（专利权）人：	京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
主分类号：	G03F1/48	分类号：	G03F1/48;G03F1/72
代理公司：	北京博思佳知识产权代理有限公司 11415	代理人：	林祥
地址：	100015 ***	国省代码：	北京;11
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摘要：
搜索关键词：	掩膜板及其制作方法
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【说明书】：

本发明提供了一种掩膜板及其制作方法，该掩膜板包括掩膜板本体，所述掩膜板本体包括透光区域和遮光区域，所述掩膜板还包括设置在所述掩膜板本体上的防划伤层。本发明提供的掩膜板，通过在掩膜板本体上设置防划伤层，在掩模板与待曝光的基板进行对位时，即使待曝光的基板上存在异物，通过该防划伤层可以起到对掩膜板本体的保护作用，从而防止对掩膜板本体造成损伤，避免影响所制作产品的良率。

技术领域

本发明涉及显示领域，尤其涉及一种掩膜板及其制作方法。

背景技术

在TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示器)技术领域，显示用基板主要包括阵列基板和彩膜基板，其中，彩膜基板主要包括彩色滤光片，目前的彩色滤光片主要通过曝光工艺制作而成，即通过掩膜板对涂覆在基板上的光阻(光刻胶)进行曝光处理，使位于曝光区域的光阻的物理特性发生变化，之后再进行显影烘烤处理，从而形成所需图案的彩色滤光片，然而，在上述曝光过程中，若待曝光的基板上存在异物，在掩模板与待曝光的基板进行对位时，掩模板容易被基板上的异物划伤，进而影响所制作产品的良率。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明要解决的技术问题是：如何解决现有的掩膜板容易被待曝光的基板划伤从而影响所制作产品的良率的问题。

(二)技术方案

为解决上述技术问题，本发明的技术方案提供了一种掩膜板，包括掩膜板本体，所述掩膜板本体包括透光区域和遮光区域，所述掩膜板还包括设置在所述掩膜板本体上的防划伤层。

优选地，所述防划伤层包括自修复材料。

优选地，所述自修复材料包括自修复微胶囊和催化剂；

当所述自修复微胶囊的囊壁破裂时，所述自修复微胶囊的囊芯与所述催化剂接触，所述自修复微胶囊的囊芯在所述催化剂的作用下发生聚合反应从而实现自修复。

优选地，所述自修复微胶囊的囊壁包括尿素-甲醛树脂，所述自修复微胶囊的囊芯包括聚二甲基硅氧烷和乙烯类聚合物，所述催化剂包括催化剂铂。

优选地，所述防划伤层包括镂空区域，所述镂空区域与所述掩膜板本体的透光区域位置对应，且所述镂空区域与所述掩膜板本体的透光区域的形状、大小均相同。

优选地，所述防划伤层的厚度为1微米～10微米。

为解决上述技术问题，本发明还提供了一种掩膜板的制作方法，包括形成掩膜板本体，所述掩膜板本体包括透光区域和遮光区域，所述方法还包括在所述掩膜板本体上形成防划伤层。