[发明专利]微镜镜面翘曲程度检测装置以及检测方法在审

专利信息
申请号: 201610008145.5 申请日: 2016-01-07
公开(公告)号: CN106949843A 公开(公告)日: 2017-07-14
发明(设计)人: 吴亚明;翟雷应;徐静;江火秀 申请(专利权)人: 上海新微技术研发中心有限公司
主分类号: G01B11/16 分类号: G01B11/16;G01B11/255
代理公司: 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙)31294 代理人: 孙佳胤
地址: 201800 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 微镜镜面翘曲 程度 检测 装置 以及 方法
【权利要求书】:

1.一种微镜镜面翘曲程度检测装置,其特征在于,包括:

样品台,用于放置一待测微镜;

入射光模块,用于产生一束照射至待测微镜镜面的入射光,入射光照射在所述待测微镜镜面形成入射光斑,光斑尺寸小于微镜镜面;

驱动模块,机械连接至样品台和/或入射光模块,驱动两者发生相对位移,以使入射光斑在所述待测微镜镜面发生移动;

反射光模块,用于将待测微镜表面的反射光汇聚形成一反射光斑,并测量驱动模块驱动样品台和入射光模块相对移动的过程中反射光斑的位移量,由此可以获得微镜镜面的翘曲程度。

2.根据权利要求1所述的微镜镜面翘曲程度检测装置,其特征在于,所述检测装置还包括一分光镜,所述分光镜设置在反射光的光路上,用以改变来自于待测微镜的反射光的传播方向,使所述反射光入射至反射光模块。

3.根据权利要求1所述的微镜镜面翘曲程度检测装置,其特征在于,所述入射光模块产生的入射光以一夹角入射待测微镜的镜面,入射光在待测微镜上反射后直接入射至反射光模块。

4.根据权利要求1所述的微镜镜面翘曲程度检测装置,其特征在于,所述入射光模块包括一光源,以及一第一聚焦透镜,所述第一聚焦透镜用于将光源发出的光汇聚至待测微镜表面形成入射光斑。

5.根据权利要求1所述的微镜镜面翘曲程度检测装置,其特征在于,所述入射光斑的形状选自于圆形光斑、椭圆光斑和十字叉丝型光斑中的一种。

6.根据权利要求1所述的微镜镜面翘曲程度检测装置,其特征在于,所述反射光模块包括一第二聚焦透镜以及一摄像头,所述第二聚焦透镜用于将待测微镜表面的反射光汇聚并聚焦形成反射光斑,所述摄像头摄取所述第二聚焦透镜焦点处的反射光斑。

7.根据权利要求6所述的微镜镜面翘曲程度检测装置,其特征在于,所述摄像头的成像镜头位置使反射光斑在摄像头成像面上形成为一个多像素的反射光斑。

8.根据权利要求7所述的微镜镜面翘曲程度检测装置,其特征在于,反射光斑在摄像头中所呈的像的尺寸不小于3×3像素。

9.根据权利要求1所述的微镜镜面翘曲程度检测装置,其特征在于,所述驱动模块驱动样品台和入射光模块发生相对位移,导致入射光斑在所述待测微镜镜面发生移动而形成经过所述待测微镜镜面的中心点的一运动轨迹。

10.根据权利要求9所述的微镜镜面翘曲程度检测装置,其特征在于,所述运动轨迹为直线,且入射光斑的移动轨迹在待测微镜的镜面内部。

11.一种微镜镜面翘曲程度检测方法,其特征在于,包括如下步骤:

提供一待测微镜;

将一束入射光照射至待测微镜镜面,在所述待测微镜镜面形成入射光斑,并将反射光汇聚形成一反射光斑;

使待测微镜和入射光发生相对位移,以使入射光斑在所述待测微镜镜面发生移动;

测量入射光斑在所述待测微镜镜面发生移动的过程中反射光斑的位移量,从而计算出镜面的翘曲程度。

12.根据权利要求11所述的微镜镜面翘曲程度检测方法,其特征在于,所述入射光与待测微镜的镜面垂直或接近垂直,所述将反射光汇聚形成一反射光斑的步骤具体是将一分光镜设置在反射光的光路上,用以改变来自于待测微镜的反射光的方向。

13.根据权利要求11所述的微镜镜面翘曲程度检测方法,其特征在于,所述入射光斑的形状选自于圆形光斑、椭圆光斑和十字叉丝型光斑中的一种。

14.根据权利要求11所述的微镜镜面翘曲程度检测方法,其特征在于,使待测微镜和入射光发生相对位移,以使入射光斑在所述待测微镜表面发生移动的步骤中,还包括调整待测微镜和入射光的相对位置,以形成经过所述待测微镜镜面中心点的一运动轨迹。

15.根据权利要求14所述的微镜镜面翘曲程度检测方法,其特征在于,所述调整待测微镜和入射光的相对位置,以形成经过所述待测微镜镜面中心点的 一运动轨迹的步骤,是以反射光斑的随动轨迹为一直线为校准依据。

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