[发明专利]一种射流制备石墨烯的方法在审
申请号: | 201610016281.9 | 申请日: | 2016-01-11 |
公开(公告)号: | CN105460931A | 公开(公告)日: | 2016-04-06 |
发明(设计)人: | 何宇轩 | 申请(专利权)人: | 王惠丽 |
主分类号: | C01B31/04 | 分类号: | C01B31/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 102218 北京市昌平*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 射流 制备 石墨 方法 | ||
1.一种射流制备石墨烯的方法,其特征在于,包括如下的步骤:
1)将块状石墨(10)有片层结合的一端放置在射流机(20)的喷口(21)前;
2)启动射流机(20),将包含有小尺寸原初石墨烯(32)的流体(30)喷射到块状石墨(10)的一端,持续喷射到两层石墨片(11)之间嵌入有原初石墨烯(32);
3)加大射流速度,将石墨片(11)从块状石墨(10)中剥离出来;
4)收集喷射后的流体(30),将包含有细小石墨片(11)、石墨烯和原初石墨烯(32)的流体进行分离,得到石墨烯。
2.如权利要求1所述的射流制备石墨烯的方法,其特征在于,所述流体(30)的主体物质是水、乙醇或者其他有机溶剂。
3.如权利要求1或2所述的射流制备石墨烯的方法,其特征在于,所述流体(30)中还包含有表面活性剂。
4.如权利要求3所述的射流制备石墨烯的方法,其特征在于,所述表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠、聚乙烯吡咯烷酮或者吐温80。
5.如权利要求1或2或4所述的射流制备石墨烯的方法,其特征在于,所述射流机(20)有流体收集装置和过滤装置,被收集并过滤后的流体被重新利用,从射流机(20)的喷口(21)喷出,射向块状石墨(10)。
6.如权利要求3所述的射流制备石墨烯的方法,其特征在于,所述射流机(20)有流体收集装置和过滤装置,被收集并过滤后的流体被重新利用,从射流机(20)的喷口(21)喷出,射向块状石墨(10)。
7.如权利要求1或2或4或6所述的射流制备石墨烯的方法,其特征在于,在步骤1)之前对块状石墨(10)需要喷射的一端进行镜面抛光。
8.如权利要求3所述的射流制备石墨烯的方法,其特征在于,在步骤1)之前对块状石墨(10)需要喷射的一端进行镜面抛光。
9.如权利要求5所述的射流制备石墨烯的方法,其特征在于,在步骤1)之前对块状石墨(10)需要喷射的一端进行镜面抛光。
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