[发明专利]一种部分氧化工艺烧嘴及其应用有效
| 申请号： | 201610017677.5 | 申请日： | 2016-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN105731376B | 公开（公告）日： | 2018-10-02 |
| 发明（设计）人： | 代正华;王辅臣;于广锁;刘海峰;龚欣;王亦飞;梁钦锋;许建良;郭庆华;陈雪莉;李伟锋;王兴军;郭晓镭;赵辉;陆海峰;龚岩;刘霞;王立;李新宇 | 申请（专利权）人： | 华东理工大学 |
| 主分类号： | C01B3/36 | 分类号： | C01B3/36 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 胡红芳 |
| 地址： | 200237 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 部分 氧化 工艺 及其 应用 | ||
1.一种部分氧化工艺烧嘴，其特征在于，包括由内而外依次设置的气化剂通道（1）、辅助气化剂通道（2）、燃料通道（3）以及保护燃料通道（4）；
所述保护燃料通道（4）由燃料通道（3）的外壁（5）与转化炉喷嘴筒体耐火砖内壁（6）构成；
所述烧嘴用于气态烃转化炉中，保护所述喷嘴的端面不受高温合成气的冲刷烧蚀；
进入气化剂通道（1）的气化剂选自氧气、氧气与水蒸气或二氧化碳的混合物；
进入辅助气化剂通道（2）的气化剂为水蒸汽或二氧化碳；
所述气化剂通道（1）的物流速度为40～150m/s，辅助气化剂通道（2）的物流速度为40～150m/s，燃料通道（3）的物流速度为40～150m/s。
2.根据权利要求1所述的烧嘴，其特征在于，所述燃料通道（3）的外壁（5）开设有小孔（7），小孔的数量大于等于2个。
3.根据权利要求2所述的烧嘴，其特征在于，所述小孔（7）的形状为圆形、方形、椭圆形或菱形。
4.根据权利要求2或3所述的烧嘴，其特征在于，所述小孔（7）的轴线与所述外壁（5）的夹角为0～90℃。
5.根据权利要求2或3所述的烧嘴，其特征在于，所述气化剂通道（1）的头部采用直管结构；所述辅助气化剂通道（2）的头部采用直管结构或者渐缩结构；所述燃料通道（3）的头部采用直管结构或者渐缩结构。
6.根据权利要求5所述的烧嘴，其特征在于，所述辅助气化剂通道（2）的头部采用渐缩结构时，外倾斜角α为45～90°。
7.根据权利要求5所述的烧嘴，其特征在于，所述燃料通道（3）的头部采用渐缩结构时，外倾斜角β为45～90°。
8.根据权利要求1所述的一种部分氧化工艺烧嘴的应用，其特征在于，所述烧嘴用于气态烃转化炉中，所述气态烃是指天然气、页岩气、油田气、煤层气、炼厂气、焦炉气、热解气中的一种或其混合物。
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