[发明专利]一种彩膜基板、其制作方法、液晶显示面板及显示装置无效

专利信息
申请号: 201610019474.X 申请日: 2016-01-13
公开(公告)号: CN105467661A 公开(公告)日: 2016-04-06
发明(设计)人: 朱涛;陆相晚;袁慧芳;唐文浩;尹海斌;方群;陈建;董安鑫;钟国强 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 彩膜基板 制作方法 液晶显示 面板 显示装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示技术领域,特别涉及一种彩膜基板、其制作方法、液晶显 示面板及显示装置。

背景技术

液晶显示面板一般包括相对设置的彩膜基板和阵列基板,以及位于彩膜基 板和阵列基板之间的液晶层。目前,彩膜基板的结构一般如图1和图2所示(其 中图2为图1所示的彩膜基板沿A-A’方向的剖面结构示意图),包括:衬底基 板10,衬底基板10被划分为显示区域11和包围显示区域11的周边区域,衬 底基板10设置有黑矩阵12,显示区域11中的黑矩阵12呈网格状结构,周边 区域中的黑矩阵12完全覆盖周边区域用于遮挡周边区域的光线,显示区域11 还设置有位于黑矩阵12上的蓝色光阻层B、绿色光阻层G和红色光阻层R、 以及位于黑矩阵12上的用于支撑显示区域的隔垫物13,周边区域还设置有位 于黑矩阵12上的用于起周边支撑作用的隔垫物13,其中,沿A-A’方向上,周 边区域中的黑矩阵12的宽度a大于显示区域11中黑矩阵12的宽度b。

上述彩膜基板在制备时,一般先在衬底基板的显示区域和周边区域制备黑 矩阵的图形;然后,在形成有黑矩阵的图形的衬底基板上依次形成蓝色光阻层、 绿色光阻层和红色光阻层。其中,在形成各光阻层的工艺流程中,在曝光前需 要在整个衬底基板上涂覆光阻层,由于光阻层的材料具有一定的流动性,导致 涂覆于黑矩阵上的光阻层的材料会向比其低一些的显示区域的开口区域流动。 由于周边区域的黑矩阵的宽度大于显示区域的黑矩阵的宽度,在显示区域与周 边区域的交界处,光阻层的材料往低处流的趋势比其它位置处更明显;这将会 导致处于显示区域临近周边区域处光阻层的厚度分布与显示区域的其它区域 处光阻层的厚度分布存在差异。

如图2所示,处于显示区域临近周边区域处光阻层的厚度c大于显示区域 的其它区域处光阻层的厚度d,从而导致位于临近周边区域处的显示与其他区 域的显示存在一定差异,进而导致液晶显示面板的显示均一性较低,显示效果 较差。

发明内容

本发明实施例提供一种彩膜基板、其制作方法、液晶显示面板及显示装置, 用以提高显示区域的光阻层的厚度分布的均一性。

因此,本发明实施例提供了一种彩膜基板,包括:衬底基板,位于所述衬 底基板上的黑矩阵,所述衬底基板被划分为显示区域和包围所述显示区域的周 边区域;其中,所述显示区域具有若干像素子区域,且所述显示区域设置有多 种颜色的第一光阻层,每一种颜色的第一光阻层对应一个像素子区域;

所述黑矩阵在所述显示区域和所述周边区域中的结构相同;

所述彩膜基板还包括:位于所述周边区域内且至少覆盖所述衬底基板的遮 光部;其中所述遮光部包括至少两层层叠设置的且颜色不同的第二光阻层。

较佳地,在本发明实施例提供的上述彩膜基板中,所述遮光部中所述第二 光阻层的层数小于且等于所述第一光阻层的颜色的数量。

较佳地,在本发明实施例提供的上述彩膜基板中,每一层所述第二光阻层 与其中一种颜色的所述第一光阻层的材料相同。

较佳地,在本发明实施例提供的上述彩膜基板中,所述遮光部包括两层所 述第二光阻层。

较佳地,在本发明实施例提供的上述彩膜基板中,所述第一光阻层包括: 蓝色第一光阻层、红色第一光阻层和绿色第一光阻层。

较佳地,在本发明实施例提供的上述彩膜基板中,所述遮光部中,至少有 一层所述第二光阻层与所述蓝色第一光阻层的材料相同,一层所述第二光阻层 与所述红色第一光阻层的材料相同。

相应地,本发明实施例还提供了一种液晶显示面板,包括本发明实施例提 供的上述任一种彩膜基板。

相应地,本发明实施例还提供了一种显示装置,包括本发明实施例提供的 上述液晶显示面板。

相应地,本发明实施例还提供了一种本发明实施例提供的上述任一种彩膜 基板的制作方法,包括:

通过一次构图工艺在衬底基板上形成黑矩阵的图形,其中,所述衬底基板 被划分为显示区域和包围所述显示区域的周边区域,所述黑矩阵在所述显示区 域与所述周边区域中的图形相同;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610019474.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top