[发明专利]一种大视场摆扫二维像移补偿双通道成像仪光学系统有效

专利信息
申请号: 201610019756.X 申请日: 2016-01-13
公开(公告)号: CN105511075B 公开(公告)日: 2017-10-13
发明(设计)人: 况耀武;舒嵘;何志平;亓洪兴;侯佳 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G02B17/08
代理公司: 上海新天专利代理有限公司31213 代理人: 郭英
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 视场 二维 补偿 双通道 成像 光学系统
【权利要求书】:

1.一种大视场摆扫二维像移补偿双通道成像仪光学系统,包括前向像移补偿镜(2)、离轴三反无焦望远镜(3)、第二折转镜(4)、横向像移补偿镜(5)、第三折转镜(6)、分色片(7)、通道一成像镜组(8)、通道一像面(9)、通道二成像镜组(10)和通道二像面(11),其特征在于:

所述的光学系统光路以离轴主镜光轴(3-5)为对称轴呈近似轴对称分布,离轴三反无焦望远镜(3)中的次镜(3-2)、第一折转镜(3-3)和望远镜后的第二折转镜(4)位于光轴(3-5)的下侧,离轴三反无焦望远镜(3)中三镜(3-4)位于光轴(3-5)的上侧,且前向像移补偿镜(2)、离轴三反无焦望远镜(3)和第二折转镜(4)相对光轴(3-5)左右对称,通道一成像镜组(8)和通道二成像镜组(10)分别位于光轴(3-5)左右两侧且安装面与光轴(3-5)成一定角度使得光路相对光轴(3-5)上下分布;

所述的离轴三反无焦望远镜(3)采用具有中间像面的离轴三反无焦形式,其入瞳位于离轴主镜(3-1)前方,出瞳位于第二折转镜(4)与分色片(7)之间,在入瞳和出瞳位置处分别放置前向像移补偿镜(2)和横向像移补偿镜(5),离轴三反无焦望远镜(3)的出瞳同时作为通道一成像镜组(8)和通道二成像镜组(10)的入瞳,通道一成像镜组(8)和通道二成像镜组(10)的出瞳位于最后一个光学面与像面之间以适应红外探测通道100%冷屏效率的要求;

所述的通道一成像镜组(8)和通道二成像镜组(10)前续光路共用,地面目标辐射信号(1)先后经过前向像移补偿镜(2)和离轴三反无焦望远镜(3)后,出射的平行光束依次经第二折转镜(4)、横向像移补偿镜(5)和第三折转镜(6),由分色片(7)进行光谱分光,分光后的两个光谱通道分别由通道一成像镜组(8)和通道二成像镜组(10)成像在通道一像面(9)和通道二像面(11)上。

2.根据权利要求1所述的一种大视场摆扫二维像移补偿双通道成像仪光学系统,其特征在于:所述的前向像移补偿镜(2)、离轴三反无焦望远镜(3)、第二折转镜(4)、横向像移补偿镜(5)和第三折转镜(6)均为反射型光学器件,表面镀有宽谱段的金属反射膜。

3.根据权利要求1所述的一种大视场摆扫二维像移补偿双通道成像仪光学系统,其特征在于:所述的通道一成像镜组(8)和通道二成像镜组(10)为可见光成像镜组、中波红外成像镜组或长波红外成像镜组;当为中波红外成像镜组或长波红外成像镜组时,镜组的出瞳在最后一个光学面与像面之间以适应红外探测通道100%冷屏效率的要求。

4.根据权利要求1所述的一种大视场摆扫二维像移补偿双通道成像仪光学系统,其特征在于:所述的离轴三反无焦望远镜(3)具有实的入瞳和出瞳,次镜(3-2)、第一折转镜(3-3)位于光轴(3-5)下侧,三镜(3-4)位于光轴(3-5)上侧,主镜(3-1)和三镜(3-4)为二次曲面反射镜,次镜(3-2)为高次非球面反射镜;主镜(3-1)、次镜(3-2)和三镜(3-4)的材料为铝合金、碳化硅、微晶玻璃或熔石英。

5.根据权利要求1所述的一种大视场摆扫二维像移补偿双通道成像仪光学系统,其特征在于:所述的前向像移补偿镜(2)位于离轴三反无焦望远镜(3)的入瞳位置,相对相机飞行方向成45°角。

6.根据权利要求1所述的一种大视场摆扫二维像移补偿双通道成像仪光学系统,其特征在于:所述的横向像移补偿镜(5)位于离轴三反无焦望远镜(3)的出瞳位置,相对相机摆扫方向成45°角。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海技术物理研究所,未经中国科学院上海技术物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610019756.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top