[发明专利]用于确定介质的料位的装置有效

专利信息
申请号: 201610019998.9 申请日: 2016-01-13
公开(公告)号: CN105784064B 公开(公告)日: 2020-10-09
发明(设计)人: C.贝尔;T.穆施;M.戴尔曼;A.比尔吉克;S.诺伊布格尔 申请(专利权)人: 克洛纳测量技术有限公司
主分类号: G01F23/284 分类号: G01F23/284
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 卢江
地址: 德国杜*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 确定 介质 装置
【权利要求书】:

1.用于利用至少一个电子电路装置(4)和至少一个信号导体设备(5)来确定容器(3)中的介质(2)的料位的装置(1),其中电子电路装置(4)给信号导体设备(5)加载电磁信号,

其特征在于,

信号导体设备(5)具有多个发射装置(6)并且电子电路装置(4)为至少一个发射装置(6)的发射行为提供至少一个度量,

电子电路装置(4)针对所述度量分析至少一个发射装置(6)的至少一个阻抗行为,

其中电子电路装置(4)给至少一个发射装置(6)加载可预先给定的频率的电磁信号,

其中可预先给定的频率基本上对应于从介质(2)中裸露的发射装置(6)的谐振频率或可预先给定的频率基本上对应于被介质(2)覆盖的发射装置(6)的谐振频率。

2.根据权利要求1所述的装置(1),其特征在于,电子电路装置(4)在可预先给定的频带内改变电磁信号的频率。

3.根据权利要求1至2之一所述的装置(1),其特征在于,电子电路装置(4)具有至少一个反射器电路(11)。

4.根据权利要求3所述的装置(1),其特征在于,反射器电路(11)监视至少一个发射装置(6)在被加载电磁信号期间的匹配。

5.根据权利要求3所述的装置(1),其特征在于,反射器电路(11)被分配给恰好一个发射装置(6)并且提供针对所述发射装置(6)的发射行为的度量。

6.根据权利要求4所述的装置(1),其特征在于,反射器电路(11)被分配给恰好一个发射装置(6)并且提供针对所述发射装置(6)的发射行为的度量。

7.根据权利要求1至2之一所述的装置(1),其特征在于,电子电路装置(4)从发射装置(6)的发射行为出发,除了料位之外还确定至少一个另外的关于介质(2)的结论,所述至少一个另外的关于介质(2)的结论是关于容器的介质中的两个不同的相或物质之间的分离层的结论和/或关于介质的介电常数的结论。

8.根据权利要求1至2之一所述的装置(1),其特征在于,载体元件(7)至少部分地承载信号导体设备(5)。

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