[发明专利]一种中大口径非球面光学元件高效高精度先进制造技术工艺流程

说明书

本发明公开了一种中大口径非球面光学元件高效高精度先进制造技术工艺流程，包括如下流程：A、粗磨、B、精密磨削、C、等离子体快速抛光、D、小工具数控抛光、E、磁流变抛光。A、粗磨，可去除大部分加工余量，提高加工效率；B、精密磨削加工，磨削后满足基本的非球面形状精度；C、等离子体快速抛光，在保持元件面形精度的前提下，提高表面质量，形成光学表面；D、小工具数控抛光，提高元件面形精度，去除大部分抛光余量；E、磁流变抛光，提高面形精度、降低表面粗糙度，达到符合元件面型精度要求的技术指标。本发明的加工工艺流程可实现中大口径非球面光学元件高精度、可控、高效加工，具有缩短加工周期，批量生产的优点。

技术领域

本发明涉及“一种中大口径非球面光学元件高效高精度先进制造技术工艺流程”，特别适用于口径大于330毫米×330毫米以上的中大口径非球面光学元件超精密加工。

背景技术

中大口径非球面的制造非常复杂，国外在中大口径非球面光学元件加工技术领域，先后发展了超精密磨削技术、确定性平面面形数控抛光技术、非球面小工具数控抛光技术、磁流体抛光技术、等离子体抛光技术、离子束抛光技术等新技术。已经掌握了相关工艺设备、单项工艺技术及应用的工艺技术。

我国中大口径光学元件制造工艺装备普遍比较落后，大量采用单轴摆式的古典法研磨系统，加工精度极度依赖于技术人员的经验，产品精度重复性较差、效率低，加工一片Φ500毫米非球面镜需要半年以上时间。二十世纪九十年代以后引进了一批较先进的加工设备，初步具备了非球面光学元件的制造能力，但加工尺寸范围比较小（Φ300毫米以下），只适合加工中小口径非球面光学元件。

所查相关文献中，有关于非球面光学元件加工工艺方面的研究报导，其中涉及到磨削、大气等离子体抛光、磁流变抛光等文献报导。

陈建平等在“中国激光”发表文献“大口径非球面镜加工建模与控制技术”文献、韩成顺等在“光电工程”发表文献“超精密磨削大型光学非球面元件的研究”、张学忱等在“工程图学学报” 发表文献“基于轴对称非球面元件的加工模型研究”、李洁等在“金刚石与磨料磨具工程”发表文献“大口径方形非球面镜的高效磨削技术研究”、赵磊生等在“许昌学院学报”发表文献“大口径非球面光学元件磨削控制系统的研究”、吕寻可在“长春理工大学”发表文献“大口径光学非球面超精密磨削机床结构设计”、长春设备工艺研究所申请专利CN201310314323.3“一种应用于中大口径非球面光学元件的点线包络磨削方法”，以上文献中均提交采用磨削工艺技术。

贺启强在“哈尔滨工业大学”发表文献“计算机控制大气等离子体光学加工方法研究”、哈尔滨工业大学申请专利CN201310177039.6“水电极大气等离子体加工大口径非球面光学零件的方法”，以上文献提及采用大气等离子体抛光技术。

左巍等在“高陡度非球面光学元件加工技术研究”发表文献提及采用单点金刚石车削(DPT)、金刚石磨削、确定性微研磨(DMG)、磁流变抛光(MRF)和射流抛光等先进制造技术。

程颢波等在“清华大学学报（自然科学版）”发表文献“磁流变抛光光学非球面元件表面误差的评价”、袁志刚等在 “制造业自动化”发表文献“磁流变数控抛光技术研究”提及磁流变抛光技术。

上述文献虽然提及国内加工大口径非球面光学元件在一些单项工艺设备、单项工艺技术方面具备了相关的研究基础，但是很多新技术还处于实验研究阶段。整套加工工艺不完善，缺少高效精密加工工艺和整套加工工艺规范，在工程应用方面工艺技术的成套性差、工程化程度低、制造质量和制造效率低。

发明内容

本发明的目的在于：

本发明要解决的技术问题是克服现有中大口径非球面光学元件加工工艺技术的成套性差、工程化程度低、制造质量和制造效率低的问题，提供一种中大口径非球面光学元件加工工的高效、高精度先进制造技术工艺流程。

为解决上述技术问题，本发明提出的技术方案为 ：