[发明专利]单晶圆湿式处理装置在审
| 申请号： | 201610023209.9 | 申请日： | 2016-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN106971958A | 公开（公告）日： | 2017-07-21 |
| 发明（设计）人： | 吴宗恩;罗翔隆;徐子正 | 申请（专利权）人： | 弘塑科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙)31218 | 代理人： | 翟羽 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 单晶圆湿式 处理 装置 | ||
1.一种单晶圆湿式处理装置，用于防止晶圆边缘的底面腐蚀，其特征在于，包括：
旋转夹头，用于固持并旋转一晶圆；
背洗座，设置于所述旋转夹头周围，包括环形平面，所述环形平面与所述晶圆之底面具有预定间距，背洗座于所述环形平面之外周缘处为直角结构；以及
环形气体喷嘴，开设于所述背洗座的所述环形平面上，并与所述晶圆边缘相距预定距离，且喷出气体的方向与所述环形平面夹预定夹角，用以在所述环形平面与所述晶圆的所述底面之间形成气墙；
其中所述预定间距介于2mm至5mm，所述预定距离介于10mm至15mm，所述预定夹角介于30度至45度。
2.根据权利要求1所述的单晶圆湿式处理装置，其特征在于，所述环形平面之外周缘约等于所述晶圆边缘，且所述直角结构约切齐所述晶圆边缘。
3.根据权利要求1所述的单晶圆湿式处理装置，其特征在于，所述预定间距为3mm。
4.根据权利要求1所述的单晶圆湿式处理装置，其特征在于，所述预定距离为13mm。
5.根据权利要求1所述的单晶圆湿式处理装置，其特征在于，所述预定夹角为40度。
6.根据权利要求1所述的单晶圆湿式处理装置，其特征在于，所述环形气体喷嘴为在所述背洗座上之一环形斜缝结构。
7.根据权利要求1所述的单晶圆湿式处理装置，其特征在于，所述环形气体喷嘴用于喷出氮气，且喷出氮气的流量介于100LPM(公升/分钟)至150LPM。
8.根据权利要求7所述的单晶圆湿式处理装置，其特征在于，喷出氮气的流量为120LPM。
9.根据权利要求1所述的单晶圆湿式处理装置，其特征在于，进一步包括内环形气体喷嘴，其开设于所述背洗座的所述环形平面上，并与所述环形气体喷嘴呈同心圆，用以在所述环形平面与所述晶圆的所述底面之间形成气墙。
10.根据权利要求1所述的单晶圆湿式处理装置，其特征在于，进一步包括纯水喷头，所述纯水喷头开设于所述背洗座的所述环形平面上，用于对所述晶圆边缘的所述底面作冲洗。
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