[发明专利]一种制备金刚石晶体薄膜材料的装置和方法

说明书

本发明提供一种制备金刚石薄膜材料的装置和方法，属于金刚石薄膜技术领域。所述的装置包括：真空系统、热丝阵列、带石英管的CVD炉、电控部分。金刚石晶体薄膜的制备方法、步骤包括：硅片清洗、金刚石粉末研磨；在所述装置的热丝CVD炉中，气体为H₂、CH₄，通过去离子水的H₂的气氛下，生长得到金刚石晶体薄膜。本发明制备的金刚石晶体薄膜具有结晶度高、质量好，厚度均匀等特点。所述设备具有成本低、易于维护的特点。金刚石晶体薄膜的制备方法具有生长速度快、薄膜样品表面均匀，易实现工业生产等优点。

技术领域

本发明涉及金刚石薄膜技术领域，具体涉及一种制备金刚石薄膜材料的装置和方法。

背景技术

金刚石又名钻石，除了其绚丽的色彩受到人们的珍视外，其独特的物理和化学性能使其在机械、热学、光学、半导体、声学和现代军事等方面都能发挥着重要的作用。由于天然金刚石在自然界中的含量极少，价格昂贵，因而人们的研究兴趣转移到人工合成金刚石上来。金刚石薄膜与金刚石单晶一样也具有很高的热导率、硬度和非常好的化学稳定性，在很宽的光波段范围内透明，并具有很高的折射率，另外它的抗张强度高，线膨胀系数非常小。这些优良特性可使其应用于各种光学器件中(如高强度光学窗口、半导体激光器热沉，高强度光学薄膜以及X射线光刻掩膜等)，改进器件性能和提高抗破坏能力。金刚石薄膜除了具有很好的表面特性外，还具有非常好的电子发射能力，在平板显示器件中有很重要的应用前景。但是，金刚石膜一般都是多晶结构。由于表面能高，产生较高的表面粗糙度。这是由于金刚石膜中的晶粒尺寸比较大，一般晶粒平均尺寸在微米到几十微米之间，这将严重影响金刚石薄膜在光学方面和电子学方面的应用。

目前金刚石薄膜的制备技术主要包括微波等离子体化学气相沉积、直流等离子体喷射化学气相沉积、热丝化学气相沉积(HF-CVD)等。热丝化学气相沉积法的基本原理是含碳气体(如甲烷、丙酮等)被衬底上方设置的金属热丝高温加热分解形成的碳活性粒子在一定的温度和压力条件下，在基体表面形核并逐渐生长为金刚石涂层。相对于其他两种技术，热丝法可制备大面积金刚石薄膜，且综合成本最低具有良好的工业推广潜能。然而，热丝CVD也存在一些有待解决的技术问题。

1、热丝的寿命不够长，影响了生长效率。现有热丝CVD工艺中，甲烷通常是先与氢气混合，然后送到钨丝加热器之间，混合气体穿过加热丝形成的高温区，受到强烈的辐射和对流加热。甲烷和钨丝在高温下直接接触，导致了钨丝的碳化、变形。或者分别设置CH₄和H₂不同腔室，氢气对准钨丝而甲烷气体对准两根钨丝之间的空腔吹入气体。这些反应设备大多为钟罩式的腔室，热丝CVD炉的上端进气，底端出气，单根螺旋热丝位于出气口和进气口之间。这种钟罩式CVD腔室虽然带有观察窗口，但是依然难以观察腔室内部的变化。反应腔由带有两个观察窗口及冷却系统的不锈钢管道组成。为减少高温热丝导致的气体热绕流现象，提高反应气体的工质流速和离化率，实验中在热丝排列面的两侧添加了限流的石墨挡板。此外，这种钟罩式反应室体积过大、复杂繁琐、不利于维护，需要专门的水冷设施(微细加工技术,2003,(1),27-33；Applied Physics Letters 1991,59,(4),488-490；Diamondand Related Materials 2004,13(1),6-13)。本发明的目的之一在于提供一种操作简单、维护方便、可大面积生长金刚石的热丝化学气相沉积设备。

2、普通CVD通常采用单根螺旋热丝，所制备的金刚石膜的面积小、成膜不均匀、沉积速率低，难以实现金刚石膜的工业化应用。此外，单根螺旋热丝由于受热不均，易产生变形、扭曲，使用寿命极短。一些采用多根热丝构成热丝架的热丝CVD法制备金刚石薄膜的报道，但这种工艺繁琐复杂，系统稳定性和重复性受到限制。也有相关文献报道采用固定电极和活动电极。活动电极通过弹簧相连，随着热丝受热变长，弹簧拉动电极进行补偿。但是，在系统较长时间运行过程中，活动电极与导线连接处的冷却无法得到有效疏散，活动电极的滑动将受阻，使得热丝变形后无法得到及时的拉升，从而造成下坠。