[发明专利]一种加速度传感器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201610032044.1 申请日: 2016-01-18
公开(公告)号: CN105675921B 公开(公告)日: 2018-10-26
发明(设计)人: 周志健;朱二辉;陈磊;杨力建;邝国华 申请(专利权)人: 广东合微集成电路技术有限公司
主分类号: G01P15/125 分类号: G01P15/125;G01P21/00
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆;胡彬
地址: 523808 广东省东莞市松山湖高*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 加速度 传感器 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种加速度传感器的制作方法,其特征在于,包括:

在衬底中形成空腔和位于所述空腔上方的与所述衬底绝缘并依次相互绝缘连接的第一悬空薄膜、第二悬空薄膜和第三悬空薄膜;

在所述第一悬空薄膜上形成与之电连接的第一电极,在所述第二悬空薄膜上形成与之电连接的第二电极,在所述第三悬空薄膜上形成与之电连接的第三电极,以及在衬底上方形成与之电连接的第四电极;

形成扭转梁结构,所述第一悬空薄膜、第二悬空薄膜和第三悬空薄膜通过所述扭转梁结构与所述衬底连接,且所述第一悬空薄膜和第二悬空薄膜沿所述扭转梁结构对称。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在衬底中形成空腔和位于所述空腔上方的与所述衬底绝缘并依次相互绝缘连接的第一悬空薄膜、第二悬空薄膜和第三悬空薄膜包括:

在衬底上图形化形成三个依次排列的第一图样,所述第一图样边缘包括多个第一图形,所述第一图样内部包括多个第二图形,所述第一图形尺寸大于所述第二图形尺寸;

刻蚀所述第一图样的多个第一图形和第二图形分别形成第一凹槽和第二凹槽;

进行无氧退火处理,所述第一凹槽收缩形成第三凹槽,所述第二凹槽闭合,形成所述空腔和位于所述空腔上方的依次连接的第一悬空薄膜、第二悬空薄膜和第三悬空薄膜,所述第一悬空薄膜、第二悬空薄膜、第三悬空薄膜以及所述衬底通过第三凹槽间隙连接;

进行热氧化处理,形成热氧化层,使所述第一悬空薄膜、第二悬空薄膜、第三悬空薄膜和衬底相互绝缘连接。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在衬底中形成空腔和位于所述空腔上方的与所述衬底绝缘并依次相互绝缘连接的第一悬空薄膜、第二悬空薄膜和第三悬空薄膜包括:

在衬底上图形化形成第二图样,所述第二图样包括多个第三图形;

刻蚀所述第二图样的多个第三图形形成多个第四凹槽;

进行无氧退火处理,所述第四凹槽闭合,形成所述空腔和位于所述空腔上方的悬空薄膜;

图形化刻蚀所述悬空薄膜,形成多个第三凹槽,以及依次连接的第一悬空薄膜、第二悬空薄膜和第三悬空薄膜,所述第一悬空薄膜、第二悬空薄膜、第三悬空薄膜以及所述衬底通过第三凹槽间隙连接;

进行热氧化处理,形成热氧化层,使所述第一悬空薄膜、第二悬空薄膜、第三悬空薄膜和衬底相互绝缘连接。

4.根据权利要求2或3所述的方法,其特征在于,在衬底中形成空腔和位于所述空腔上方的与所述衬底绝缘并依次相互绝缘连接的第一悬空薄膜、第二悬空薄膜和第三悬空薄膜之后,还包括:

形成掩膜层,其中,所述掩膜层将所述第三凹槽密封;

图形化刻蚀所述掩膜层和热氧化层,分别在所述第一悬空薄膜、第二悬空薄膜和第三悬空薄膜上方以及衬底上形成第五凹槽;

形成导电层,填充并覆盖所述第五凹槽;

在每个第五凹槽周围图形化刻蚀所述导电层和所述掩膜层,形成电隔离沟槽;

沉积绝缘层,并在每个电隔离沟槽区域内图形化刻蚀所述绝缘层,形成第六凹槽;

在所述第一悬空薄膜上形成与之电连接的第一电极,在所述第二悬空薄膜上形成与之电连接的第二电极,在所述第三悬空薄膜上形成与之电连接的第三电极,以及在衬底上方形成与之电连接的第四电极,包括:

图形化金属层,形成第一电极、第二电极、第三电极和第四电极,所述第一电极、第二电极、第三电极和第四电极分别填充覆盖所述第一悬空薄膜、第二悬空薄膜和第三悬空薄膜上方以及衬底上方对应的第六凹槽;

所述形成扭转梁结构,所述第一悬空薄膜、第二悬空薄膜和第三悬空薄膜通过所述扭转梁结构与所述衬底连接,且所述第一悬空薄膜和第二悬空薄膜沿所述扭转梁结构对称,包括:

图形化刻蚀绝缘层、导电层、掩膜层、热氧化层、第一悬空薄膜、第二悬空薄膜、和第三悬空薄膜,形成扭转梁结构,所述第一悬空薄膜、第二悬空薄膜和第三悬空薄膜通过所述扭转梁结构与所述衬底连接,且所述第一悬空薄膜和第二悬空薄膜沿所述扭转梁结构对称。

5.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,相邻第一图形的间距大于相邻第二图形的间距,相邻第一图形和第二图形的间距等于相邻第二图形的间距。

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