[发明专利]二氧化碳机能水制备系统

说明书

本发明公开了一种二氧化碳机能水制备系统，所述二氧化碳机能水应用于工业制造系统，所述二氧化碳机能水制备系统包括纯水抛光系统、溶解装置、超滤过滤装置及脱气装置，所述溶解装置连接于所述纯水抛光系统与所述超滤过滤装置之间，所述超滤过滤装置通过管道与所述工业制造系统连接，所述脱气装置连接于所述纯水抛光系统与所述工业制造系统之间，所述工业制造系统用过的水经所述脱气装置进行脱气处理后流回所述纯水抛光系统。所述二氧化碳机能水制备系统可避免水资源浪费，并降低成本。

技术领域

本发明涉及水处理领域，尤其涉及一种可循环利用的二氧化碳机能水制备系统。

背景技术

二氧化碳机能水由二氧化碳气体溶于超纯水中而得到。在工业制造中尤其是显示屏、触摸屏等电子消费品领域，经常需要清洗玻璃基板，而玻璃基板上通常带有静电，二氧化碳机能水中具有碳酸，碳酸可发生电离产生离子，用二氧化碳机能水清洗所述玻璃板，可以中和所述玻璃基板上的静电。现有技术中，制备二氧化碳机能水，通常是采用独立的纯水抛光系统制得超纯水后存储于超纯水存储罐中，再经过独立的二氧化碳机能水制备系统制得二氧化碳机能水。

请参阅图1a，独立的纯水抛光系统通常由纯水存储罐、热交换器、杀菌装置、抛光装置及超滤过滤装置依次连接而成，制得超纯水，存储于超纯水存储罐中，其中，用作超纯水的制备原水的是纯水，所述纯水由纯水制备系统提供，并储存于所述纯水存储罐中。超纯水的电阻率大于18MΩ*cm。请参阅图1b，独立的二氧化碳机能水制备系统由超纯水存储罐、溶解装置及超滤过滤装置依次连接而成，最终为玻璃基板提供二氧化碳机能水。

二氧化碳机能水在洗涤了玻璃基板之后还可以作为纯水循环利用，由玻璃基板洗涤工序流回纯水存储罐，重新经过独立的纯水抛光系统及独立的二氧化碳机能水制备系统，然后再次用于玻璃基板的洗涤。然而，当二氧化碳机能水循环的次数和/或水量多时，二氧化碳及其它杂质越来越多，容易致使二氧化碳含量不合格，杂质超标，从而导致水质下降，水质下降后不能再作为纯水直接流回纯水抛光系统的纯水存储罐中，而是要排放掉或者流回到纯水制备系统中重新处理，若排放掉，则会浪费大量的水资源，并导致成本大幅提高；若流回到纯水制备系统重新处理，则使纯水制备系统的处理量大大增加，而纯水制备系统包括一系列仪器设备，这会大幅增加设备成本。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于，提供一种二氧化碳机能水制备系统，所述二氧化碳机能水制备系统可避免水资源浪费，并降低成本。

为了解决上述技术问题，本发明采用以下技术方案：

本发明提供一种二氧化碳机能水制备系统，所述二氧化碳机能水应用于工业制造系统，所述二氧化碳机能水制备系统包括纯水抛光系统、溶解装置、超滤过滤装置及脱气装置，所述溶解装置连接于所述纯水抛光系统与所述超滤过滤装置之间，所述超滤过滤装置通过管道与所述工业制造系统连接，所述脱气装置连接于所述纯水抛光系统与所述工业制造系统之间，所述工业制造系统用过的水经所述脱气装置进行脱气处理后流回所述纯水抛光系统。

其中，所述纯水抛光系统包括依次连接的纯水存储罐、杀菌装置及抛光装置，所述脱气装置连接于所述纯水存储罐与所述工业制造系统之间。

其中，所述纯水抛光系统还包括控温装置，所述控温装置连接于所述纯水存储罐及所述杀菌装置之间。

其中，所述纯水抛光系统还包括辅助超滤过滤装置，所述辅助超滤过滤装置连接于所述溶解装置与所述抛光装置之间。

其中，所述纯水抛光系统还包括预处理装置，所述预处理装置连接于所述纯水存储罐与所述控温装置之间。

其中，所述预处理装置是多介质过滤器或活性炭吸附装置。

其中，所述二氧化碳机能水制备系统还包括预处理装置，所述预处理装置连接于所述脱气装置与所述纯水抛光系统之间。