[发明专利]一种无损检测高精度元件缺陷的方法在审

专利信息
申请号: 201610035277.7 申请日: 2016-01-19
公开(公告)号: CN105486693A 公开(公告)日: 2016-04-13
发明(设计)人: 刘刚;张灿;王圣浩;胡仁芳;韩华杰;侯双月;陆亚林 申请(专利权)人: 中国科学技术大学
主分类号: G01N21/95 分类号: G01N21/95
代理公司: 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 代理人: 郑立明;郑哲
地址: 230026 安*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 无损 检测 高精度 元件 缺陷 方法
【权利要求书】:

1.一种无损检测高精度元件缺陷的方法,其特征在于,包括:

搭建依次设置的且包含X射线光源、源光栅G0、分束光栅G1、分析光栅G2及探测器 的光路,该光路中的源光栅G0的周期与分析光栅G2的周期、分束光栅G1的周期与分析 光栅G2的周期满足预设条件;

将待检测高精度元件放置于分束光栅G1与分析光栅G2之间,对待检测高精度元件进 行相位衬度成像,获得待检测高精度元件的折射信号和吸收信号,从而对其缺陷进行检 测。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述光路中的源光栅G0的周期与分析 光栅G2的周期、分束光栅G1的周期与分析光栅G2的周期满足预设条件包括:

源光栅G0的周期P0与分析光栅G2的周期P2满足:

P0l=P2d;]]>

分束光栅G1的周期P1与分析光栅G2的周期P2满足:

P1l=P2l+d;]]>

其中,l为源光栅G0与分束光栅G1之间的距离,d分束光栅G1与分析光栅G2之间的 距离。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,获得待检测高精度元件的折射信号包 括:

通过单步或者多步成像,由探测器采集获得待检测高精度元件的折射信号:

其中,i是复数虚部单位,Ik(x,y,d)是像素(x,y)在相位步进第k步且分束光栅G1与 分析光栅G2之间的距离为d时采集到图像的灰度值;是像素(x,y)处测到的折射 角;N是相位步进的步数,当采用单步成像时,k=N=1,当采用多步成像时, k=1,...,N。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学技术大学,未经中国科学技术大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610035277.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top