[发明专利]晶片抛光用抛光垫及抛光垫的自吸附方法

权利要求书

1.一种晶片抛光用抛光垫，包括抛光垫体（2）；其特征是：所述抛光垫体（2）上设置具有吸附能力的吸附体，抛光垫体（2）能通过吸附体与抛光大盘（1）固定连接。

2.根据权利要求1所述的晶片抛光用抛光垫，其特征是：所述吸附体包括真空吸附胶膜（6），所述真空吸附胶膜（6）与抛光垫体（2）固定成一体或通过胶膜粘附层（18）与抛光垫体（2）连接。

3.根据权利要求2所述的晶片抛光用抛光垫，其特征是：所述真空吸附胶膜（6）上设有若干吸附凹槽（7），真空吸附胶膜（6）的厚度为100μm~5mm。

4.根据权利要求1所述的晶片抛光用抛光垫，其特征是：所述吸附体包括磁力吸附膜，所述磁力吸附膜的厚度为100μm~1cm。

5.根据权利要求4所述的晶片抛光用抛光垫，其特征是：所述磁力吸附膜包括用于与抛光垫体（2）固定连接的磁力吸附上膜（8）以及能与所述磁力吸附上膜（8）相互吸附的磁力吸附下膜（9），所述磁力吸附下膜（9）真空吸附或胶粘在抛光大盘（1）上，所述磁力吸附上膜（8）与抛光垫体（2）固定成一体或通过磁力膜粘附层（10）与抛光垫体（2）连接。

6.根据权利要求1所述的晶片抛光用抛光垫，其特征是：所述吸附体包括绒毛吸附上膜（19）以及与所述绒毛吸附上膜（19）相对应的绒毛吸附下膜（13），所述绒毛吸附上膜（19）固定在抛光垫体（2）上，绒毛吸附下膜（13）固定在抛光大盘（1）上，在绒毛吸附上膜（19）上设置上层绒毛（11），绒毛吸附下膜（13）上设置于上层绒毛（11）匹配的下层绒毛（12），绒毛吸附上膜（19）与绒毛吸附下膜（13）间通过上层绒毛（11）与下层绒毛（12）间相互接触产生的横向剪切力紧密连接。

7.根据权利要求6所述的晶片抛光用抛光垫，其特征是：所述上层绒毛（11）、下层绒毛（12）的高度为10μm~1mm，上层绒毛（11）、下层绒毛（12）的材料包括有机纤维或聚酯。

8.根据权利要求1所述的晶片抛光用抛光垫，其特征是：所述吸附体包括磨砂吸附上膜（14）以及与所述磨砂吸附上膜（14）相对应的磨砂吸附下膜（17），所述磨砂吸附上膜（14）固定在抛光垫体（2）上，磨砂吸附下膜（17）固定在抛光大盘（1）上；在磨砂吸附上膜（14）上设置上层磨砂（15），在磨砂吸附下膜（16）上设置与上层磨砂（15）匹配的下层磨砂（16），所述磨砂吸附上膜（14）与磨砂吸附下膜（17）间通过上层磨砂（15）与下层磨砂（16）间的相互接触紧密连接。

9.一种晶片抛光用抛光垫的自吸附方法，其特征是：在抛光垫体（2）上设置具有吸附能力的吸附体，抛光垫体（2）能通过吸附体与抛光大盘（1）固定连接。

10.根据权利要求9所述晶片抛光用抛光垫的自吸附方法，其特征是：所述吸附体包括真空吸附胶膜（6），所述真空吸附胶膜（6）与抛光垫体（2）固定成一体或通过胶膜粘附层（18）与抛光垫体（2）连接；

所述真空吸附胶膜（6）上设有若干吸附凹槽（7），真空吸附胶膜（6）的厚度为100μm~5mm，吸附凹槽（7）的直径为10μm~5mm，吸附凹槽（7）的深度为1μm~1mm。