[发明专利]一种用于电致变色玻璃的透明导电玻璃及其制备方法在审
申请号: | 201610042357.5 | 申请日: | 2016-01-21 |
公开(公告)号: | CN105601125A | 公开(公告)日: | 2016-05-25 |
发明(设计)人: | 周学武;丁洪光;王小峰 | 申请(专利权)人: | 内蒙古坤瑞玻璃股份有限公司 |
主分类号: | C03C17/34 | 分类号: | C03C17/34 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 010070 内蒙古自治*** | 国省代码: | 内蒙古;15 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 变色 玻璃 透明 导电 及其 制备 方法 | ||
1.一种用于电致变色玻璃的透明导电玻璃,其特征在于,其依 次包括:玻璃基层、保护膜、增透膜和透明导电膜,所述玻璃基层一 侧表面利用真空磁控溅射技术镀有所述保护膜,所述保护膜表面利用 真空磁控溅射技术镀有所述增透膜,所述增透膜表面利用真空磁控溅 射技术镀有所述透明导电膜。
2.根据权利要求1所述的一种用于电致变色玻璃的透明导电玻 璃,其特征在于,所述透明导电膜为掺有稀土材料的AZO透明导电 膜;所述AZO为掺铝氧化锌,其中,氧化锌与铝的质量比为90:10; 所述稀土材料为钇、镧、钐、铈、钆、钕、铒、钪中的任意一种;所 述稀土材料的添加比例为所述AZO与所述稀土材料混合后总质量的 0.01%~5%,优选为0.3~2%;所述透明导电膜厚度为50~500nm。
3.根据权利要求1所述的一种用于电致变色玻璃的透明导电玻 璃,其特征在于,所述增透膜是氧化钛增透膜、氧化铌增透膜、氧化 锆增透膜、氧化硅增透膜或氧化钛、氧化铌、氧化锆、氧化硅中的两 种或两种以上混合材料增透膜中的任意一种,所述增透膜厚度为 1~85nm。
4.根据权利要求1所述的一种用于电致变色玻璃的透明导电玻 璃,其特征在于,所述保护膜是氧化钛保护膜、氧化硅保护膜、氮化 硅保护膜、氮化钛保护膜或氧化钛、氧化硅、氮化硅、氮化钛中的两 种或两种以上混合材料保护膜中的任意一种,所述保护膜厚度为 5~50nm。
5.根据权利要求1所述的一种用于电致变色玻璃的透明导电玻 璃,其特征在于,所述玻璃基层为普通浮法玻璃、超白浮法玻璃、着 色玻璃中的任意一种,所述玻璃基层的厚度为2~15mm;所述玻璃基 层优选为4~8mm的超白浮法玻璃。
6.一种用于电致变色玻璃的透明导电玻璃制备方法,其特征在 于,其包括如下步骤:(1)制备导电膜材料靶;(2)清洗玻璃基层; (3)保护膜溅射;(4)增透膜溅射;(5)透明导电膜溅射;(6)退 火处理得到成品透明导电玻璃;其中,
(1)制备导电膜材料靶:将稀土材料与AZO粉末按比例混合均 匀,投入模具后,经冷等静压工艺压制成靶材坯体,然后烧结形成导 电膜材料靶;
(2)清洗玻璃基层:玻璃基层经纯净水清洗烘干后送入真空镀 膜室;
(3)保护膜溅射:采用保护膜材料靶向所述玻璃基层一侧表面 中频反应溅射保护膜,设定功率50~120KW,氩气和氮气混合气氛溅 射,气压4.5~5.5×10-4mbar;
(4)增透膜溅射:采用增透膜材料靶向所述保护膜表面中频反 应溅射增透膜,设定功率20~50KW,氩气和氧气混合气氛溅射,气 压为4.5~5.5×10-4mbar;
(5)透明导电膜溅射:采用所述步骤(1)制备的所述导电膜材 料靶向所述增透膜表面中频反应溅射透明导电膜,所述透明导电膜厚 度为50~500nm,设定功率30~60KW,氩气和氧气混合气氛溅射,气 压4.5~5.5×10-4mbar,得到透明导电玻璃半成品;
(6)退火处理得到成品透明导电玻璃:将所述透明导电玻璃半 成品放入真空退火炉内,进行真空退火,得到成品透明导电玻璃。
7.根据权利要求6所述的一种用于电致变色玻璃的透明导电玻 璃制备方法,其特征在于,所述AZO为掺铝氧化锌,其中,氧化锌 与铝的质量比为90:10;所述稀土材料为钇、镧、钐、铈、钆、钕、 铒、钪中的任意一种;所述稀土材料的添加比例为所述AZO与所述 稀土材料混合后总质量的0.01%~5%,优选为0.3~2%。
8.根据权利要求6所述的一种用于电致变色玻璃的透明导电玻 璃制备方法,其特征在于,所述保护膜材料靶是氧化钛靶材、氧化硅 靶材、氮化硅靶材、氮化钛靶材或氧化钛、氧化硅、氮化硅、氮化钛 中的两种或两种以上混合材料靶材中的任意一种,所述保护膜厚度为 5~50nm。
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