[发明专利]一种负离子内墙砖有效

专利信息
申请号: 201610043174.5 申请日: 2016-01-23
公开(公告)号: CN105541293B 公开(公告)日: 2018-08-03
发明(设计)人: 侯晓涛;马胜昔;刘智永 申请(专利权)人: 山东联众陶瓷有限公司
主分类号: C04B33/13 分类号: C04B33/13;C04B33/34;C04B41/89;C03C8/20;C03C8/04;C03C8/16;C03C8/02
代理公司: 淄博佳和专利代理事务所 37223 代理人: 张雯
地址: 256500 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 负离子 内墙
【说明书】:

一种负离子内墙砖,属于内墙砖技术领域。一种负离子内墙砖,其特征在于:包括坯体、化妆土层、负离子面釉层,所述的化妆土层的釉浆重量份组成为:化妆土成釉100份、纤维素0.8~1.1份、水分保持剂0.33~0.35份、水33~37份,所述负离子面釉层的釉浆重量份组成为:面釉熔块95份、高岭土5~5.5份、纤维素0.18~0.22份、三聚磷酸钠0.28~0.32份、负氧离子材料4~7份。本发明通过化妆涂层的成分调节,阻断负离子进入坯体的通道,成功的在密度小、气孔率高的墙面装上实现了负离子的高效释放。

技术领域

一种负离子内墙砖,属于内墙砖技术领域。

背景技术

内墙砖是一种重要的建筑装饰装修材料,由于多是用于竖直贴附环境。所以要求内墙砖具有更小的比重和膨胀比。现有技术将锂电气石、镁电气石材料与纳米TiO2用作负离子发生剂,制成具有负离子释放功能的纳米复合负离子粉体,引入到陶瓷砖中,并与陶瓷基体良好结合起来,从而获得具有释放负离子能力的陶瓷釉面砖。但是在负离子材料应用于内墙砖时存在以下问题。内墙砖由于比重小,坯体的气孔率更高,在外部釉层或全抛层气孔率相对更小的情况下,有相当一部分负离子会进入坯体而浪费,降低负离子的有效释放量,缩短负离子材料的有效激发时间。

发明内容

克服现有技术的不足,提供了一种负离子产生速率快、利用率高的负离子内墙砖。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:该负离子内墙砖,其特征在于:包括坯体、化妆土层、负离子面釉层,所述的化妆土层的釉浆重量份组成为:化妆土成釉100份、纤维素0.8~1.1份、水分保持剂 0.33~0.35份、水33~37份,所述负离子面釉层的釉浆重量份组成为:面釉熔块95份、高岭土5~5.5份、纤维素0.18~0.22份、三聚磷酸钠 0.28~0.32份、负氧离子材料4~7份。

本发明通过改变化妆土层和负离子面釉层的组成,调节两个秞层的气孔率、气孔大小和吸水能力,通过气孔率、气孔大小配合使得负离子能够充分释放。最主要的,本发明在传统常用的化妆土成油和面釉熔块的基础上添加调节成份,调控秞层达到特定的吸潮能力,能够一定的吸附所在空间的水分供负氧离子材料激发为负氧离子,提高负氧离子材料的有效利用率,同时吸湿能力配合气孔率、气孔大小达到一种既有充足水分被激发为负离子,又不会在釉面形成细密水珠。大大提高负氧离子单位时间的释放速率的同时,保持釉面清爽。

本发明选择使用面釉熔块与调节成份配合,而不是直接将调节成份加入的面釉的原料组成中,主要是为了调节在烧结的时候由于烧失量产生的釉料膨胀系数和针孔,以达到上述气孔率、气孔大小。同时防止原料溶于水或带有碱性,保证釉浆性能。并尽量把二氧化碳等提前排出从而不影响釉面平整度。提前制成熔块后还容易控制研磨时间和细度,更易于控制釉浆性能。

优选的,所述的化妆土层的釉浆重量份组成为:化妆土成釉100份、纤维素1.0份、水分保持剂 0.35份、水35份,所述负离子面釉层的釉浆重量份组成为:面釉熔块95份、高岭土5份、纤维素0.2份、三聚磷酸钠 0.3份、负氧离子材料5份,水分保持剂为三聚磷酸钠。本优选配方形成釉面的微型结构达到最佳的配合效果,尤其适合中国北方干燥地区,空气中的水分不足的环境。

优选的,所述的化妆土成釉的原料的成份质量百分比为SiO2 55.4%~56%,Al2O3 4%~5%,CaO 23%~24%,MgO 2%~3%,LOI (烧失量)5%~6%,TiO2 8.0%~8.6%。化妆土层的基本作用是将面釉层和坯体层隔离,减少水分渗透,同时形成底色并保持釉面凭证。本化妆土成釉的组成能够与本发明化妆土层的调节成份达到最佳的配合效果,使本发明水分吸附和面釉层的负离子激发达到最佳配合。同时本化妆土成釉的组成能够更好的阻断负氧离子移动到坯体中形成的浪费。

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